[發明專利]具有光吸收層的光學玻璃及其制備方法

有效

• 申請號: 202010421571.8
• 申請日: 2020-05-18
• 公開（公告）號: CN111574067B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發明（設計）人: 那天一;賈金升;鄭京明;呂學良;李開宇;李自金;石鈺;洪升;李惠全;孫勇;曹振博;孔壯
• 申請（專利權）人: 中國建筑材料科學研究總院有限公司
• 主分類號: C03C23/00
• 分類號: C03C23/00
• 代理公司: 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348
• 代理人: 張曉萍;劉鐵生

本發明是關于一種具有光吸收層的光學玻璃及其制備方法，該制備方法包括：在還原氣氛下，對待處理的光學玻璃進行第一處理，所述第一處理的壓力為0.5MPa～100MPa；在還原氣體和氮氣的混合氣氛下，對所述第一處理后的光學玻璃進行第二處理，所述第二處理的溫度T滿足：TgTTf；對所述第二處理后的光學玻璃進行后處理，得到具有光吸收層的光學玻璃。該光學玻璃包括學玻璃基體和光吸收層，所述光吸收層與所述光學玻璃基體之間的界面反射率小于1％；其中，所述光吸收層為自基底光吸收層，所述光吸收層的光吸收率大于99％。該制備方法解決了難以在結構致密的光學玻璃中制備光吸收層的問題，且不存在受熱或者收外界作用力后發生脫落的問題。

技術領域

本發明涉及光學玻璃加工技術領域，具體為一種具有光吸收層的光學玻璃及其制備方法。

背景技術

由光學玻璃構成的部件是光學儀器中的關鍵性元件，可用于接收目標光信號。但光學玻璃自身會因玻璃材料的邊界反射等原因而不可避免地產生一定量的干擾性雜散光，這些干擾性雜射光的存在無疑會影響光學儀器的成像精度，對于高精度的光學儀器，就需要盡量避免這些光干擾的影響。因此，需要采取一些必要的措施來減少或消除光干擾的不良影響，從而提高光學儀器的精度。

在光學儀器生產領域，目前消雜光技術比較完善的方法是光吸收層涂敷法，即在光學鏡片邊緣涂覆光吸收層，對散射到器件邊緣的雜光進行吸收。這項技術簡單易行，成本適宜，是目前應用得最多的方法。然而，此方法在具有上述優點的同時也存在著一定的弊端，例如：①光學玻璃器件的涂覆層和器件本身之間不可避免地存在著一個界面，此界面必然會產生相應的界面反射，同樣會影響光學儀器系統的成像清晰度，進而對觀測精度有一定的影響；②涂覆層一般與所涂敷的光學鏡片二者的膨脹系數差異較大，當鏡片在在一定的高低溫環境中連續工作，或者承受高量級的力學振動后，可能會導致涂覆層大概率從鏡片邊緣發生脫落，進而影響光學系統正常工作，嚴重者甚至導致系統報廢。基于上述問題，探索一種工藝簡單、穩定性高的新型消雜光技術的研究受到了國內外研究人員的廣泛關注。

針對去除雜散光問題，近年來，也提出了一種對光學鏡片進行高溫還原處理的工藝，解決了一部分光學玻璃的光串擾問題，但是光學玻璃大多結構致密，即使在高溫條件下進行還原處理，還原氣體也難以擴散進入玻璃；就算進入一小部分，也難以生成一定厚度的吸收層，如此則無法實現吸收足量雜散光的效果。

發明內容

本發明的主要目的在于，提供一種具有光吸收層的光學玻璃的制備方法及其制備方法，所要解決的技術問題是現有高溫還原工藝無法滿足在結構致密的光學玻璃中制備光吸收層。

本發明的目的及解決其技術問題是采用以下技術方案來實現的。依據本發明提出的一種具有光吸收層的光學玻璃的制備方法，其包括：

在還原氣氛下，對待處理的光學玻璃進行第一處理，所述第一處理的壓力為0.5MPa～100MPa；

在還原氣體和氮氣的混合氣氛下，對所述第一處理后的光學玻璃進行第二處理，所述第二處理的溫度T滿足：TgTTf；

對所述第二處理后的光學玻璃進行后處理，得到具有光吸收層的光學玻璃。

本發明的目的及解決其技術問題還可采用以下技術措施進一步實現。

優選的，前述的具有光吸收層的光學玻璃的制備方法，其中所述還原氣氛包括H₂、CO和CH₄中的至少一種。

優選的，前述的具有光吸收層的光學玻璃的制備方法，其中所述第一處理的時間為1-2h。

優選的，前述的具有光吸收層的光學玻璃的制備方法，其中所述第一處理的溫度為20-30℃。