[發明專利]防水膜層及其制備方法和產品

有效

• 申請號: 202010419177.0
• 申請日: 2020-05-18
• 公開（公告）號: CN111690306B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發明（設計）人: 宗堅;康必顯
• 申請（專利權）人: 江蘇菲沃泰納米科技股份有限公司
• 主分類號: C09D133/16
• 分類號: C09D133/16;B05D1/00;B05D5/08
• 代理公司: 寧波理文知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 33244
• 代理人: 羅京;鄭盈

1.一防水膜層，其特征在于，其以一種或者是多種具有通式（I）所示的化合物通過等離子體化學氣相沉積方法在一基材表面形成，

（I）

其中R₁、R₂以及R₃獨立地選自氫、烷基、鹵素、鹵代烷基或者芳基，其中R₁、R₂以及R₃中的至少一個是鹵素，其中R₄是基團X-R₅，R₅是鹵代烷基基團，而X是基團-C(O)O(CH₂)_nY-，其中n是0~10的整數，而Y是一個鍵或者是氨磺酰基團；或者是X是基團-O-C(O)-(CH₂)_iZ-，其中i是1~10的整數，而Z是一個鍵或者是氨磺酰基團；或者X是基團-(CH₂)_xU-，其中x是1~10的整數，而U是一個鍵或者是氨磺酰基團；或者X是基團-(O)_pR₆(O)_q(CH₂)_t-，其中R₆是任選地有鹵素取代的芳基，p是0或1，q是0或者1，而t是0或者1~10的整數，條件是當q是1時，t是非0。

2.根據權利要求1所述的防水膜層，其中通式（I）的化合物被實施為通式（II）的化合物， (II)

其中R₃為鹵素，R₄為基團-C(O)O(CH₂)_nR₅，或者是基團-O-C(O)-(CH₂)_iR₅，R₅為鹵代烷基基團。

3.根據權利要求2所述的防水膜層，其中R₅是全鹵代烷基基團。

4.根據權利要求2所述的防水膜層，其中n是1~8的整數。

5.根據權利要求1至4任一所述的防水膜層，其中R₅是通式為C_mF_2m+1的基團，m是1~13的整數。

6.根據權利要求5所述的防水膜層，其中m是1~8的整數。

7.一具有防水膜層的產品，其特征在于，產品被設置有一防水膜層，其中所述防水膜層通過以一種或者是多種具有通式（I）所示的化合物通過等離子體化學氣相沉積方法在所述產品表面形成，

（I）

其中R₁、R₂以及R₃獨立地選自氫、烷基、鹵素、鹵代烷基或者芳基，其中R₁、R₂以及R₃中的至少一個是鹵素，其中R₄是基團X-R₅，R₅是鹵代烷基基團；而X是基團-C(O)O(CH₂)_nY-，其中n是0~10的整數，而Y是一個鍵或者是氨磺酰基團；或者是X是基團-O-C(O)-(CH₂)_iZ-，其中i是1~10的整數，而Z是一個鍵或者是氨磺酰基團；或者X是基團-(CH₂)_xU-，其中x是1~10的整數，而U是一個鍵或者是氨磺酰基團；或者X是基團-(O)_pR₆(O)_q(CH₂)_t-，其中R₆是任選地有鹵素取代的芳基，p是0或1，q是0或者1，而t是0或者1~10的整數，條件是當q是1時，t是非0。

8.根據權利要求7所述的產品，其中所述產品選自組合：電子產品、絲織品、金屬產品、玻璃產品、陶瓷產品中的一種或者是幾種。