[發(fā)明專利]一種基于相位分解的液晶陣列天線波束成型與自適應控制方法

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• 申請日: 2020-05-18
• 公開（公告）號: CN113690616A
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發(fā)明（設計）人: 雷東
• 申請（專利權）人: 北京道古視界科技有限公司
• 主分類號: H01Q3/26
• 分類號: H01Q3/26
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種基于相位分解的液晶陣列天線波束成型與自適應控制方法，其特征在于，包括如下步驟，

S1、給定所期望的陣列天線的輻射方向圖函數(shù)；

S2、通過對給定方向圖函數(shù)進行逼近，確定每一陣元的饋電權重矢量；

S3、對每一個在陣列平面上進行相位分解，確定某一波束指向所對應的相位分解陣元分布；

S4、通過天線的驅(qū)動系統(tǒng)實現(xiàn)相位分解陣元中液晶偏轉(zhuǎn)狀態(tài)的陣列分布進而實現(xiàn)所期望的陣列天線輻射方向圖。

2.根據(jù)權利要求1所述的一種基于相位分解的液晶陣列天線波束成型與自適應控制方法，其特征在于：步驟S3中對應的兩個相位分解單元中陣元輻射場Eij在x軸和y軸上的分量的大小，通過調(diào)節(jié)相位分解陣元中的液晶的偏轉(zhuǎn)程度來實現(xiàn)。

3.根據(jù)權利要求2所述的一種基于相位分解的液晶陣列天線波束成型與自適應控制方法，其特征在于：液晶的偏轉(zhuǎn)程度調(diào)節(jié)包括如下內(nèi)容，外加電場并控制其大小變化，極化液晶材料中液晶分子產(chǎn)生不同程度的偏轉(zhuǎn)。

4.根據(jù)權利要求1所述的一種基于相位分解的液晶陣列天線波束成型與自適應控制方法，其特征在于：步驟S4包括如下內(nèi)容，通過給每一個相位分解陣元加載電壓驅(qū)動信號，實現(xiàn)相位分解陣元中液晶偏轉(zhuǎn)狀態(tài)的陣列分布，從而確定每一個所對應的幅度在兩個分解單元上的數(shù)值；通過相位分解陣元上的輻射場在遠場區(qū)的疊加，實現(xiàn)所期望的陣列天線輻射方向圖。

5.根據(jù)權利要求1所述的一種基于相位分解的液晶陣列天線波束成型與自適應控制方法，其特征在于：步驟S4中，當陣列天線的波束指向發(fā)生變化時，通過天線的控制系統(tǒng)刷新這一陣列天線中相應的輻射單元上的控制電壓，從而實現(xiàn)波束指向的切換，達到陣列天線方向圖的再現(xiàn)。