[發明專利]一種減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法有效
| 申請號： | 202010414945.3 | 申請日： | 2020-05-15 |
| 公開（公告）號： | CN111568390B | 公開（公告）日： | 2023-07-07 |
| 發明（設計）人： | 曹鵬 | 申請（專利權）人： | 杭州佳量醫療科技有限公司 |
| 主分類號： | A61B5/01 | 分類號： | A61B5/01;A61B5/055 |
| 代理公司： | 杭州天勤知識產權代理有限公司 33224 | 代理人： | 白靜蘭 |
| 地址： | 311121 浙江省杭州市余杭區五*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 減少 實時 磁共振 溫度 成像 系統 誤差 方法 | ||
1.一種減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，所述方法包括：
（1）在成像物體的周圍擺放若干個參照水膜，并通過磁共振兼容的溫度光纖對若干個參照水膜實時測溫；
（2）通過采集加熱前和加熱中的磁共振相位圖，計算每個參照水膜測溫點的相位差，以及每個參照水膜測溫點的實際溫度變化，計算出每個參照水膜測溫點的主磁場偏差；
（3）根據參照水膜測溫點的實時主磁場偏差，估計主磁場偏差的整體平面分布；
（4）根據步驟（3）得到的主磁場偏差的整體平面分布對磁共振成像的每一個像素點根據相位圖直接計算的溫度進行矯正，并計算每個像素點的實際溫度；
在步驟（4）中，對溫度進行矯正的方法為：，其中為該像素點的加熱前溫度；
計算每個像素點的實際溫度的方法為：。
2.根據權利要求1所述的減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，在步驟（1）中，所述參照水膜內為添加釓造影劑的水溶液。
3.根據權利要求1所述的減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，在步驟（1）中，在成像物體的左下、左上、右下、右上四個方位擺放四個參照水膜。
4.根據權利要求3所述的減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，在步驟（1）中，所述四個參照水膜的位置相互垂直，相互之間的距離不小于成像物體的1/2。
5.根據權利要求1所述的減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，在步驟（2）中，在計算每個參照水膜測溫點的相位差中，每個參照水膜測溫點的磁共振相位信息，取和測溫光纖最鄰近的一個或多個像素點。
6.根據權利要求1所述的減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，在步驟（2）中，通過公式，計算出每個參照水膜測溫點的主磁場偏差；其中，表示氫質子的旋磁比，表示靜磁場強度，表示回波時間，表示氫質子溫度頻率系數。
7.根據權利要求1所述的減少實時磁共振溫度成像中系統溫度誤差的方法，其特征在于，在步驟（3）中，假設主磁場偏差空間分布為線性，利用公式對四個測溫點值進行最小二乘法擬合，得出擬合參數，，，從而估計出主磁場偏差的整體平面分布。
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