[發明專利]一種調光層、一種勻光部件及一種抗吸附調光層

在審

• 申請號: 202010414267.0
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111983738A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: 唐海江;夏寅;付坤;王小凱;高斌基;劉建凱;李剛;張彥
• 申請（專利權）人: 寧波激智科技股份有限公司
• 主分類號: G02B5/02
• 分類號: G02B5/02
• 代理公司: 北京策略律師事務所 11546
• 代理人: 張華

1.一種調光層，其特征在于，所述調光層具有入光面和出光面；所述調光層內包含有光散射劑，所述光散射劑置于調光層的入光面和出光面之間；所述入光面為光滑平面，所述出光面為光滑平面；所述入光面的表面粗糙度Ra≤250nm，所述出光面的表面粗糙度Ra≤250nm；所述光散射劑在調光層中的填充率D’為0.0001～0.95。

2.根據權利要求1所述的調光層，其特征在于，所述調光層內包括傳播介質和光散射劑，所述光散射劑分散在傳播介質中；所述入光面的表面粗糙度Ra250nm，所述出光面的表面粗糙度Ra250nm。

3.根據權利要求2所述的調光層，其特征在于，所述調光層的厚度T為0.5～5000μm；所述入光面的表面粗糙度Ra100nm，所述出光面的表面粗糙度Ra100nm。

4.根據權利要求2所述的調光層，其特征在于，所述傳播介質選自聚合物樹脂。

5.根據權利要求2所述的調光層，其特征在于，所述入光面的表面粗糙度Ra50nm，所述出光面的表面粗糙度Ra50nm。

6.根據權利要求1所述的調光層，其特征在于，所述光散射劑選自聚合物粒子或無機粒子中的一種或至少兩種的組合。

7.根據權利要求1所述的調光層，其特征在于，所述光散射劑在調光層中的填充率D’為0.35～0.95。

8.根據權利要求7所述的調光層，其特征在于，所述光散射劑的粒徑為50-250nm。

9.一種勻光部件，其特征在于，所述勻光部件為權利要求1-8中任一項所述的調光層。

10.一種勻光部件，其特征在于，所述勻光部件包括權利要求1-8中任一項所述的調光層和基材，所述調光層的上表面和下表面中至少有一面與所述基材相接。

11.一種抗吸附調光層，其特征在于，所述抗吸附調光層包含薄板結構層和權利要求1-8中任一項所述的調光層。

12.根據權利要求11所述的抗吸附調光層，其特征在于，所述薄板結構層附著在所述的調光層的上表面和/或下表面。

13.根據權利要求11所述的抗吸附調光層，其特征在于，所述薄板結構層包括若干薄板結構。

14.根據權利要求11所述的抗吸附調光層，其特征在于，所述薄板結構層由扁平狀的薄板結構平鋪而成。

15.根據權利要求11所述的抗吸附調光層，其特征在于，所述薄板結構的外表面與調光層的外表面平行，所述薄板結構的側面垂直于調光層的外表面。

16.根據權利要求11所述的抗吸附調光層，其特征在于，所述薄板結構呈扁平狀，高H為0.5～5μm，高寬比r為0.05～0.2。

17.根據權利要求11所述的抗吸附調光層，其特征在于，所述薄板結構在調光層外表面的面積覆蓋率k為5％～50％。