[發(fā)明專利]用于構建版圖圖案集的方法、設備和計算機可讀存儲介質

在審

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• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111597768A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發(fā)明（設計）人: 不公告發(fā)明人
• 申請（專利權）人: 全芯智造技術有限公司
• 主分類號: G06F30/392
• 分類號: G06F30/392;G06F30/398
• 代理公司: 北京市金杜律師事務所 11256
• 代理人: 黃倩

根據本公開的示例實施例，提供了用于構建版圖圖案集的方法、設備和計算機可讀存儲介質。一種構建版圖圖案集的方法包括確定用于電路版圖的多個初始圖案。多個初始圖案中的每個初始圖案包括至少一個幾何圖形。該方法還包括通過改變和組合多個初始圖案，生成目標圖案。該方法進一步包括基于目標圖案構建版圖圖案集。以此方式，可以豐富已有版圖圖案集中的圖案或者生成具有大量圖案的版圖圖案集。如此獲得的版圖圖案集可以幫助標識和研究未知的版圖類型，進而促進縮短工藝開發(fā)時間。

技術領域

本公開的實施例主要涉及集成電路領域，并且更具體地，涉及用于構建版圖圖案集的方法、設備和計算機可讀存儲介質。

背景技術

電路版圖(又可以簡稱為版圖)是從設計并模擬優(yōu)化后的電路所轉化成的一系列幾何圖形，其包含了集成電路尺寸、各層拓撲定義等器件相關的物理信息數據。集成電路制造商根據這些數據來制造掩模。掩模上的圖形決定著芯片上器件或連接物理層的尺寸。

在半導體生產中，制造工藝窗口通常會受到電路版圖上某種幾何特征的影響。包括這種幾何特征的圖案類型通常被稱為熱點或熱點圖案。通常期望能夠在工藝開發(fā)的早期階段，預測工藝的熱點圖案。為了達到這一目標，需要大量的各種圖案來探索熱點圖案。

發(fā)明內容

根據本公開的示例實施例，提供了一種用于構建版圖圖案集的方案。

在本公開的第一方面中，提供了一種構建版圖圖案集的方法。該方法包括確定用于電路版圖的多個初始圖案。多個初始圖案中的每個初始圖案包括至少一個幾何圖形。該方法還包括通過改變和組合多個初始圖案，生成目標圖案。該方法進一步包括基于目標圖案構建所述版圖圖案集。

在本公開的第二方面中，提供了一種電子設備。該電子設備包括處理器以及與處理器耦合的存儲器，存儲器具有存儲于其中的指令，指令在被處理器執(zhí)行時使設備執(zhí)行動作。動作包括確定用于電路版圖的多個初始圖案。多個初始圖案中的每個初始圖案包括至少一個幾何圖形。動作還包括通過改變和組合多個初始圖案，生成目標圖案。動作進一步包括基于目標圖案構建所述版圖圖案集。

在一些實施例中，基于目標圖案構建版圖圖案集可以包括：確定目標圖案是否滿足與電路版圖中的幾何圖形的尺寸和位置相關的約束條件；以及如果確定目標圖案滿足約束條件，將目標圖案添加至版圖圖案集。

在一些實施例中，生成目標圖案可以包括：改變多個初始圖案中的至少一個幾何圖形，以確定經改變的初始圖案；以及將經改變的初始圖案組合成目標圖案。

在一些實施例中，改變至少一個幾何圖形可以包括以下中的至少一項：改變至少一個幾何圖形的形狀，或改變至少一個幾何圖形在初始圖案中的位置。

在一些實施例中，經改變的初始圖案可以包括第一圖案和第二圖案。將經改變的初始圖案組合成目標圖案可以包括：確定第一圖案中的第一幾何圖形所占據的第一區(qū)域；確定第二圖案中與第一區(qū)域相對應的第二區(qū)域；以及通過調整第二區(qū)域中的第二幾何圖形來確定目標圖案。

在一些實施例中，通過調整第二區(qū)域中的第二幾何圖形來確定目標圖案可以包括：通過從第二圖案中移除第二幾何圖形，來確定目標圖案。

在一些實施例中，通過調整第二區(qū)域中的第二幾何圖形來確定目標圖案可以包括：通過疊加第一幾何圖形和第二幾何圖形，來確定目標圖案。

在一些實施例中，經改變的初始圖案可以包括第三圖案和第四圖案。將經改變的初始圖案組合成目標圖案可以包括：通過相對于第三圖案放置第四圖案來確定目標圖案，使得在目標圖案中第三圖案與第四圖案間隔開。

在一些實施例中，動作還可以包括：如果確定目標圖案滿足約束條件，將目標圖案添加至構建中的電路版圖，作為電路版圖的一部分；確定電路版圖的構建是否完成；以及如果確定電路版圖的構建尚未完成，從電路版圖集中確定多個另外的初始圖案。