[發(fā)明專(zhuān)利]一種曲面擬合的地面高光譜影像反射率校正方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010413379.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111595781B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 呂書(shū)強(qiáng);侯妙樂(lè);李?lèi)?ài)群;黃純豪;高振華 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京建筑大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01N21/17 | 分類(lèi)號(hào): | G01N21/17;G01N21/27;G01J3/28 |
| 代理公司: | 北京慕達(dá)星云知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11465 | 代理人: | 符繼超 |
| 地址: | 100044*** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 曲面 擬合 地面 光譜 影像 反射率 校正 方法 | ||
1.一種曲面擬合的地面高光譜影像反射率校正方法,其特征在于,包括以下具體步驟:
步驟1:采集目標(biāo)物高光譜影像、標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像和暗電流數(shù)據(jù),判斷標(biāo)準(zhǔn)反射板是否完全覆蓋所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像,如果是,則將所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像減去所述暗電流數(shù)據(jù)后得到標(biāo)準(zhǔn)反射板校正數(shù)據(jù)并進(jìn)入步驟3;否則進(jìn)入步驟2;
步驟2:利用所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像構(gòu)建曲面模型,從而獲取與所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像行列數(shù)相同的所述標(biāo)準(zhǔn)反射板校正數(shù)據(jù);
步驟3:將所述暗電流數(shù)據(jù)擴(kuò)展為與所述目標(biāo)物高光譜影像行列數(shù)相同的暗電流校正數(shù)據(jù);
步驟4:用所述目標(biāo)物高光譜影像減去擴(kuò)展后的所述暗電流校正數(shù)據(jù),得到目標(biāo)物校正數(shù)據(jù);
步驟5:將所述目標(biāo)物校正數(shù)據(jù)除以求得的所述標(biāo)準(zhǔn)反射板校正數(shù)據(jù),然后乘以所述標(biāo)準(zhǔn)反射板的反射率標(biāo)準(zhǔn)數(shù)值,得到目標(biāo)物高光譜反射率影像,從而完成反射率校正;
其中,所述步驟2的具體實(shí)現(xiàn)過(guò)程為:
步驟21:利用所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像和所述暗電流數(shù)據(jù)獲取待擬合反射板數(shù)據(jù);
步驟22:根據(jù)所述待擬合反射板數(shù)據(jù)利用最小二乘法擬合出所述曲面模型;
步驟23:將所述目標(biāo)物高光譜影像行列數(shù)代入所述曲面模型,擬合出與所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像行列數(shù)相同的所述標(biāo)準(zhǔn)反射板校正數(shù)據(jù);
其中,所述步驟21的具體實(shí)現(xiàn)過(guò)程為:
步驟211:在所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像中裁剪所述標(biāo)準(zhǔn)反射板覆蓋區(qū)域的高光譜數(shù)據(jù),從而獲得新標(biāo)準(zhǔn)反射板數(shù)據(jù);
步驟212:裁剪出所述暗電流數(shù)據(jù)中與所述新標(biāo)準(zhǔn)反射板數(shù)據(jù)位置相同的暗電流數(shù)據(jù)作為裁剪后暗電流數(shù)據(jù);
步驟213:將所述裁剪后暗電流數(shù)據(jù)擴(kuò)展至所述新標(biāo)準(zhǔn)反射板數(shù)據(jù)相同大小,獲得新暗電流數(shù)據(jù);
步驟214:用所述新標(biāo)準(zhǔn)反射板數(shù)據(jù)減去所述新暗電流數(shù)據(jù),獲得所述待擬合反射板數(shù)據(jù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曲面擬合的地面高光譜影像反射率校正方法,其特征在于,所述步驟22的具體實(shí)現(xiàn)過(guò)程為:
步驟221:根據(jù)所述待擬合反射板數(shù)據(jù),建立坐標(biāo)系,使得數(shù)據(jù)全部位于第一象限,且以一個(gè)像素為單位長(zhǎng)度,獲取每個(gè)像素點(diǎn)所對(duì)應(yīng)的x值和y值,使得左下角第一個(gè)點(diǎn)的坐標(biāo)為(1,1);
步驟222:以每個(gè)所述像素點(diǎn)對(duì)應(yīng)的影像灰度值作為Z值,從而獲取整個(gè)所述待擬合反射板數(shù)據(jù)的所述像素點(diǎn)表示;
步驟223:在雙點(diǎn)光源的情況下,對(duì)所述待擬合反射板數(shù)據(jù)進(jìn)行曲面擬合,首先構(gòu)造一個(gè)曲面函數(shù),然后采用最小二乘法代入,求得所述曲面函數(shù)的所有參數(shù),從而獲得所述曲面模型。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曲面擬合的地面高光譜影像反射率校正方法,其特征在于,所述步驟3的具體實(shí)現(xiàn)過(guò)程為:所述暗電流數(shù)據(jù)為兩行數(shù)據(jù),一行為0,一行為所述暗電流數(shù)據(jù),選取有數(shù)據(jù)的一行,重復(fù)擴(kuò)展為與所述標(biāo)準(zhǔn)反射板高光譜影像的行數(shù)相同的所述暗電流校正數(shù)據(jù),從而獲得暗電流立方體。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曲面擬合的地面高光譜影像反射率校正方法,其特征在于,所述步驟5具體實(shí)現(xiàn)方法為:利用所述目標(biāo)物校正數(shù)據(jù)逐波段逐像素除以所述標(biāo)準(zhǔn)反射板校正數(shù)據(jù),再乘以所述標(biāo)準(zhǔn)反射板的所述反射率標(biāo)準(zhǔn)數(shù)值,得到所述目標(biāo)物高光譜反射率影像,從而完成反射率校正。
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G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
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G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專(zhuān)用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





