[發(fā)明專利]一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010412601.9
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111558853A
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發(fā)明（設計）人: 李祥彪;楊培培;仲崇貴
• 申請（專利權）人: 南通大學
• 主分類號: B24B1/00
• 分類號: B24B1/00;B24B21/00
• 代理公司: 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙) 32249
• 代理人: 許潔

1.一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟(1)、超硬襯底體材料經(jīng)過切割、機械研磨、機械拋光后得到的襯底片或者回收的超硬襯底片，清洗干凈后粘貼于研磨盤上，采用第一步化學機械拋光，選擇金剛石拋光液，與去離子水混合，調(diào)節(jié)其濃度20％-30％，加入強堿調(diào)節(jié)其pH值大于13，加入氧化劑與分散劑，采用白墊作為拋光墊，拋光時間30min-50min；

步驟(2)、對步驟(1)加工完成的襯底片，卸盤后清洗干凈，重新粘貼于研磨盤上，采用第二步化學機械拋光，選用金剛石拋光液，與去離子水混合，調(diào)節(jié)其濃度15％-20％，加入強堿調(diào)節(jié)其pH值11至13之間，加入氧化劑與分散劑，采用白墊作為拋光墊，拋光時間30min-50min；

步驟(3)、對步驟(2)加工完成的襯底片，卸盤后清洗干凈，重新粘貼于研磨盤上，采用第三步化學機械拋光，選用二氧化硅膠體拋光液，與去離子水混合，調(diào)節(jié)其濃度10％-15％，加入強堿調(diào)節(jié)其pH值10至11之間，加入氧化劑與分散劑，采用阻尼布作為拋光墊，拋光時間50min-100min。

2.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述的超硬襯底包括碳化硅、氮化鎵、藍寶石、硅材料。

3.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述的金剛石拋光液粒徑為100-500nm。

4.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述強堿包括氫氧化鈉、氫氧化鉀。

5.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述的氧化劑包括雙氧水、高錳酸鉀。

6.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(1)中，所述的白墊硬度為80±5。

7.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述的金剛石拋光液粒徑為50-100nm。

8.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(2)中，所述的白墊硬度為65±5。

9.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述的二氧化硅膠體粒徑為20-30nm。

10.如權利要求1所述的一種大尺寸超硬襯底片快速拋光方法，其特征在于，所述步驟(3)中，所述的阻尼布硬度為70±5。