[發(fā)明專利]一種產(chǎn)品雙面全檢設(shè)備及其檢測方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010412128.4
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111547504B
• 公開（公告）日: 2021-09-03
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 許玉佩
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州精瀨光電有限公司
• 主分類號: B65G47/91
• 分類號: B65G47/91;G01D11/00;G01D21/00
• 代理公司: 江蘇坤象律師事務(wù)所 32393
• 代理人: 趙新民

本發(fā)明揭示了一種產(chǎn)品雙面全檢設(shè)備及其檢測方法，其中設(shè)備包括控制系統(tǒng)以及與控制系統(tǒng)電連接的平臺檢測機構(gòu)和翻轉(zhuǎn)機構(gòu)；平臺檢測機構(gòu)包括平臺驅(qū)動機構(gòu)和與平臺驅(qū)動機構(gòu)轉(zhuǎn)動連接的平臺吸取機構(gòu)，平臺吸取機構(gòu)上設(shè)置有用于吸取產(chǎn)品的第一產(chǎn)品吸取件；翻轉(zhuǎn)機構(gòu)包括翻轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)和與翻轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)轉(zhuǎn)動連接的翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)，翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)上設(shè)置有用于吸取產(chǎn)品的第二產(chǎn)品吸取件；所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)的第二產(chǎn)品吸取件與所述平臺吸取機構(gòu)的第一產(chǎn)品吸取件配合完成兩次產(chǎn)品轉(zhuǎn)移，實現(xiàn)產(chǎn)品雙面檢測。本發(fā)明可完成產(chǎn)品雙面的完全檢查，避免存在非檢區(qū)導(dǎo)致的缺陷遺漏。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及產(chǎn)品雙面檢測技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種產(chǎn)品雙面全檢設(shè)備及其檢測方法。

背景技術(shù)

在許多產(chǎn)品如電路板、液晶面板的制造生產(chǎn)中，產(chǎn)品檢測如檢測產(chǎn)品板材的厚度等是非常重要的一個工序，其影響產(chǎn)品質(zhì)量，對于生產(chǎn)的優(yōu)良率具有不可忽視的影響，其中，產(chǎn)品板材的檢測常需要確認板材的正反兩表面即A面和B面是否有缺陷。

現(xiàn)有的檢測設(shè)備采用一個檢測平臺，在檢測完產(chǎn)品A面之后，通過檢測平臺翻轉(zhuǎn)180°后檢測產(chǎn)品B面，借此達到雙面檢測的效果。此時由于B面一些區(qū)域供產(chǎn)品的吸附和支撐，檢測平臺翻轉(zhuǎn)后導(dǎo)致B面有較多的非檢區(qū)，使得部分缺陷無法檢出。且此時B面距離操作者相較于A面檢測時距離操作者較遠，不利于操作者檢查產(chǎn)品缺陷。

另外，現(xiàn)有的一些雙面檢測設(shè)備采用相對設(shè)置的雙檢測平臺，完成產(chǎn)品雙面檢測，但該設(shè)備成本較高，結(jié)構(gòu)較復(fù)雜，存在產(chǎn)品檢測的動作風(fēng)險。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于針對現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷，提供一種產(chǎn)品雙面全檢設(shè)備及其檢測方法，可完成產(chǎn)品雙面的完全檢查，避免存在非檢區(qū)導(dǎo)致的缺陷遺漏，且設(shè)備結(jié)構(gòu)較簡單、成本低。

為了實現(xiàn)上述發(fā)明目的，一方面，本發(fā)明提出了一種產(chǎn)品雙面全檢設(shè)備，其包括控制系統(tǒng)以及與所述控制系統(tǒng)電連接的平臺檢測機構(gòu)和翻轉(zhuǎn)機構(gòu)，所述平臺檢測機構(gòu)包括平臺驅(qū)動機構(gòu)和與所述平臺驅(qū)動機構(gòu)轉(zhuǎn)動連接的平臺吸取機構(gòu)，平臺吸取機構(gòu)設(shè)有用于吸取產(chǎn)品的第一產(chǎn)品吸取件，所述平臺驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述平臺吸取機構(gòu)升降和旋轉(zhuǎn)；所述翻轉(zhuǎn)機構(gòu)包括翻轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)和與所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)轉(zhuǎn)動連接的翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)，翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)設(shè)有用于吸取產(chǎn)品的第二產(chǎn)品吸取件，所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)靠近或遠離所述平臺檢測機構(gòu)，以及驅(qū)動所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)翻轉(zhuǎn)。在所述翻轉(zhuǎn)機構(gòu)靠近所述平臺檢測機構(gòu)時，當所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)翻轉(zhuǎn)前，所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)的第二產(chǎn)品吸取件與所述平臺吸取機構(gòu)的第一產(chǎn)品吸取件位于產(chǎn)品兩側(cè)，所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)的第二產(chǎn)品吸取件將所述平臺吸取機構(gòu)上的產(chǎn)品吸取至所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)上，完成產(chǎn)品從所述平臺吸取機構(gòu)交接至所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)上；當所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)翻轉(zhuǎn)產(chǎn)品后，所述平臺吸取機構(gòu)的第一產(chǎn)品吸取件將所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)上的產(chǎn)品吸取至所述平臺吸取機構(gòu)上，完成產(chǎn)品從所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)交接至所述平臺吸取機構(gòu)上。通過平臺吸取機構(gòu)和翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)完成產(chǎn)品轉(zhuǎn)移，通過翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)翻轉(zhuǎn)產(chǎn)品后通過平臺吸取機構(gòu)完成產(chǎn)品交接；平臺吸取機構(gòu)旋轉(zhuǎn)完成對產(chǎn)品另一面的檢測，檢測時產(chǎn)品的待測面不存在非檢區(qū)，有效避免了存在非檢區(qū)導(dǎo)致的缺陷遺漏。

為了實現(xiàn)產(chǎn)品的交接，優(yōu)選將所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)上的第二產(chǎn)品吸取件與所述平臺吸取機構(gòu)上的第一產(chǎn)品吸取件錯開設(shè)置。

其中，所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)可以包括旋轉(zhuǎn)連接在所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動機構(gòu)上的翻轉(zhuǎn)連接塊、連接在所述翻轉(zhuǎn)連接塊上的多根平行的翻轉(zhuǎn)支架以及設(shè)置在所述翻轉(zhuǎn)支架上的第二產(chǎn)品吸取件，所述平臺吸取機構(gòu)的第一產(chǎn)品吸取件錯開翻轉(zhuǎn)支架設(shè)置；優(yōu)選的所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)的第二產(chǎn)品吸取件為多個第一真空吸盤。

在優(yōu)選實施方式中，所述平臺吸取機構(gòu)包括鏤空平臺、設(shè)置在平臺一側(cè)的多根支撐支架以及設(shè)置在所述支撐支架上的多個第一產(chǎn)品吸取件；優(yōu)選地，所述平臺吸取機構(gòu)的產(chǎn)品吸取件為多個第二真空吸盤，多根支撐支架與多根翻轉(zhuǎn)支架交錯設(shè)置，所述第二真空吸盤與第一真空吸盤在垂直于所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)前進方向的投影面交錯設(shè)置。鏤空的設(shè)計便于所述翻轉(zhuǎn)吸取機構(gòu)的翻轉(zhuǎn)支架的定位等。