[發(fā)明專利]相控陣激光掃描裝置及其控制方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010408200.6 | 申請日: | 2020-05-14 |
| 公開(公告)號: | CN113671768A | 公開(公告)日: | 2021-11-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉浩;趙祖珍;吳梓榮 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳清華大學(xué)研究院;深圳秋田微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/29 | 分類號: | G02F1/29;G02F1/1343 |
| 代理公司: | 深圳國海智峰知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44489 | 代理人: | 王慶海 |
| 地址: | 518057 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 相控陣 激光 掃描 裝置 及其 控制 方法 | ||
本公開涉及一種相控陣激光掃描裝置及其控制方法,該相控陣激光掃描裝置包括第一透明導(dǎo)電膜、液晶調(diào)光膜、第二透明導(dǎo)電膜和供電控制單元;液晶調(diào)光膜位于第一透明導(dǎo)電膜和第二透明導(dǎo)電膜之間;第一/二透明導(dǎo)電膜中有與第一/二方向平行的多個第一/二電極;供電控制單元與第一電極和第二電極相連,用于根據(jù)目標(biāo)間隔確定目標(biāo)區(qū)域;根據(jù)目標(biāo)區(qū)域確定第一/二電極中待通電的第一/二目標(biāo)電極;對第一/二目標(biāo)電極通電以使目標(biāo)區(qū)域呈現(xiàn)透明狀態(tài)。能夠通過對液晶調(diào)光膜兩側(cè)平行交錯的透明電極通電以調(diào)整掃描裝置上透明狀態(tài)的區(qū)域的位置并形成不同的間隔,控制入射光的出射角,提高角度控制的靈活性和準(zhǔn)確性,降低掃描裝置的功率消耗和制備成本。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及激光雷達(dá)掃描技術(shù)領(lǐng)域,具體地,涉及一種相控陣激光掃描裝置及其控制方法。
背景技術(shù)
由于激光的波長較短,使用激光進行探測時,探測精度和分辨率有大幅度的提升,目標(biāo)識別能力和抗干擾能力也大幅度增強。因此,激光雷達(dá)技術(shù)被廣泛應(yīng)用于目標(biāo)偵查、衛(wèi)星定位、地圖測繪等技術(shù)領(lǐng)域。在激光雷達(dá)技術(shù)中,準(zhǔn)確控制激光掃描時的角度變化,對于提高探測精度來說至關(guān)重要。現(xiàn)有技術(shù)中,采用光機掃描的方式控制角度變化,即令激光器發(fā)射出的激光通過光機掃描裝置后產(chǎn)生衍射,并通過轉(zhuǎn)鏡、擺鏡、振鏡等方式,調(diào)整激光的衍射角度,從而實現(xiàn)激光探測時掃描角度的變化。但是光機掃描裝置的體積龐大且存在較大的機械慣性,難以靈活且準(zhǔn)確地控制掃描角度的變化,導(dǎo)致掃描速度慢,系統(tǒng)消耗的功率大,限制了系統(tǒng)的性能,且光機掃描激光雷達(dá)的制備工藝復(fù)雜,生產(chǎn)成本較高。
發(fā)明內(nèi)容
為克服相關(guān)技術(shù)中存在的問題,本公開提供一種相控陣激光掃描及其控制方法。
根據(jù)本公開實施例的第一方面,提供一種相控陣激光掃描裝置,所述相控陣激光掃描裝置包括:第一透明導(dǎo)電膜、液晶調(diào)光膜、第二透明導(dǎo)電膜以及供電控制單元;
所述液晶調(diào)光膜位于所述第一透明導(dǎo)電膜和所述第二透明導(dǎo)電膜之間;
所述第一透明導(dǎo)電膜中設(shè)置有沿第一方向平行排列的至少兩個第一電極,用于與所述液晶調(diào)光膜及第二透明導(dǎo)電膜配合進行入射光的方位角處理;
所述第二透明導(dǎo)電膜中設(shè)置有沿第二方向平行排列的至少兩個第二電極,用于發(fā)射經(jīng)方位角處理的出射光,所述第一方向和所述第二方向之間非鈍角的夾角為預(yù)設(shè)角度;
所述供電控制單元,分別與所述第一電極和所述第二電極相連,用于:
根據(jù)所述相控陣激光掃描裝置的目標(biāo)間隔確定所述液晶調(diào)光膜上的目標(biāo)區(qū)域;
根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)域確定所述第一電極中待通電的第一目標(biāo)電極,及所述第二電極中待通電的第二目標(biāo)電極;
分別對所述第一目標(biāo)電極和所述第二目標(biāo)電極通電,以使所述目標(biāo)區(qū)域呈現(xiàn)透明狀態(tài)。
可選的,所述第一電極和第二電極為條狀電極。
可選的,所述條狀電極的寬度在0.01um-100um之間;所述第一透明導(dǎo)電膜和第二透明導(dǎo)電膜中的每個條狀電極之間的間隔在0.01um-100um之間。
可選的,所述第一電極和第二電極的材料為透明導(dǎo)電材料。
可選的,所述掃描裝置還包括:第一基材和第二基材;
所述第一透明導(dǎo)電膜位于所述第一基材和所述液晶調(diào)光膜之間;
所述第二透明導(dǎo)電膜位于所述第二基材和所述液晶調(diào)光膜之間。
可選的,所述液晶調(diào)光膜的材料為聚合物分散液晶。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于深圳清華大學(xué)研究院;深圳秋田微電子股份有限公司,未經(jīng)深圳清華大學(xué)研究院;深圳秋田微電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010408200.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





