[發(fā)明專利]一種渦旋式吹灰組件、包括其的SCR反應(yīng)裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010407842.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111545053A | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 朱廷鈺;郭旸旸;許肖飛 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院過程工程研究所 |
| 主分類號(hào): | B01D53/86 | 分類號(hào): | B01D53/86;B01D53/90;B01D53/96;B01D53/56;B08B9/093 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 鞏克棟 |
| 地址: | 100190 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 渦旋式 組件 包括 scr 反應(yīng) 裝置 方法 | ||
1.一種渦旋式吹灰組件,其特征在于,所述的渦旋式吹灰組件包括沿殼體周向設(shè)置的至少三個(gè)噴吹管,所述的噴吹管沿殼體外周的同一向傾斜設(shè)置于殼體外壁面上,所述的噴吹管外接壓縮空氣源,壓縮空氣經(jīng)噴吹管噴入殼體內(nèi)部形成氣流渦旋對(duì)殼體內(nèi)部易積灰區(qū)域進(jìn)行噴吹清灰。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的渦旋式吹灰組件,其特征在于,所述的噴吹管沿殼體周向水平設(shè)置,所述的噴吹管在水平面上沿同一傾斜方向傾斜設(shè)置于殼體外壁面上,壓縮空氣經(jīng)噴吹管噴入殼體內(nèi)部形成水平面上的氣流渦旋;
優(yōu)選地,所述的殼體橫截面為多邊形,所述殼體的每側(cè)外壁面上分別設(shè)置有至少一個(gè)噴吹管;
優(yōu)選地,在水平面內(nèi),所述的噴吹管與殼體外壁面的夾角為15~45°,壓縮空氣呈15~45°斜角噴入殼體內(nèi)部;
優(yōu)選地,所述的殼體截面為圓形,所述的殼體外壁面上等距設(shè)置至少三個(gè)噴吹管;
優(yōu)選地,在水平面內(nèi),所述的噴吹管和殼體相接點(diǎn)所在切線與所述噴吹管的夾角為15~45°,壓縮空氣呈15~45°斜角噴入殼體內(nèi)部。
3.一種內(nèi)部設(shè)置有吹灰組件的SCR反應(yīng)裝置,其特征在于,所述的SCR反應(yīng)裝置包括立式殼體以及橫向設(shè)置于立式殼體內(nèi)部的至少一層催化劑層;
所述的立式殼體底部設(shè)置有權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的渦旋式吹灰組件。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的SCR反應(yīng)裝置,其特征在于,所述的立式殼體頂部入口設(shè)置有水平方向的變徑進(jìn)口煙道,所述的立式殼體底部出口設(shè)置有水平方向的變徑出口煙道,煙氣沿水平方向由進(jìn)口煙道進(jìn)入立式殼體由上至下依次穿過所述的催化劑層后沿水平方向由出口煙道排出;
優(yōu)選地,所述的進(jìn)口煙道與立式殼體對(duì)接的轉(zhuǎn)彎煙道內(nèi)部設(shè)置有至少兩組導(dǎo)流板,所述的導(dǎo)流板用于改變進(jìn)入進(jìn)口煙道的煙氣流向;
優(yōu)選地,所述的導(dǎo)流板為分段結(jié)構(gòu)的弧直型導(dǎo)流板;
優(yōu)選地,所述的立式殼體頂部設(shè)置有至少一層整流格柵;
優(yōu)選地,所述的整流格柵等距間隔設(shè)置;
優(yōu)選地,相鄰兩個(gè)整流格柵之間的距離控制在40~100mm;
優(yōu)選地,所述的出口煙道上方的立式殼體外壁面處設(shè)置有所述的吹灰組件;
優(yōu)選地,所述的出口煙道上設(shè)置有顆粒物檢測(cè)裝置,所述的顆粒物檢測(cè)裝置用于對(duì)出口煙道排煙中的顆粒物濃度進(jìn)行檢測(cè)。
5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的SCR反應(yīng)裝置,其特征在于,所述的導(dǎo)流板分為內(nèi)側(cè)導(dǎo)流板和外側(cè)導(dǎo)流板,所述的內(nèi)側(cè)導(dǎo)流板設(shè)置于進(jìn)口煙道與立式殼體對(duì)接的轉(zhuǎn)彎煙道內(nèi)側(cè),所述的外側(cè)導(dǎo)流板設(shè)置于進(jìn)口煙道與立式殼體對(duì)接的轉(zhuǎn)彎煙道外側(cè),所述的內(nèi)側(cè)導(dǎo)流板和外側(cè)導(dǎo)流板沿?zé)煔饬飨虺史派錉罘植迹?/p>
優(yōu)選地,所述的內(nèi)側(cè)導(dǎo)流板沿?zé)煔饬飨虬▽?duì)接的內(nèi)側(cè)弧形導(dǎo)流板和內(nèi)側(cè)直導(dǎo)流板,所述的內(nèi)側(cè)弧形導(dǎo)流板向轉(zhuǎn)彎煙道內(nèi)側(cè)延伸形成內(nèi)側(cè)直導(dǎo)流板;
優(yōu)選地,所述的內(nèi)側(cè)直導(dǎo)流板與豎直方向的夾角為5~15°;
優(yōu)選地,所述的外側(cè)導(dǎo)流板沿?zé)煔饬飨虬▽?duì)接的外側(cè)弧形導(dǎo)流板和外側(cè)直導(dǎo)流板,所述的外側(cè)弧形導(dǎo)流板沿豎直方向延伸形成外側(cè)直導(dǎo)流板。
6.根據(jù)權(quán)利要求3-5任一項(xiàng)所述的SCR反應(yīng)裝置,其特征在于,每個(gè)催化劑層上方均設(shè)置有吹灰裝置,所述的吹灰裝置用于對(duì)催化劑層噴吹清灰;
優(yōu)選地,所述的吹灰裝置的壓縮空氣入口合并為一路后通過壓縮空氣主管接入壓縮空氣源,壓縮空氣源經(jīng)壓縮空氣主管分別向不同的吹灰裝置提供壓縮空氣;
優(yōu)選地,所述的壓縮空氣主管上設(shè)置有加熱裝置,壓縮空氣源提供的壓縮空氣經(jīng)加熱裝置加熱后分配至不同的吹灰裝置;
優(yōu)選地,所述的吹灰裝置和所述的噴吹管分別使用不同的壓縮空氣源或共用同一個(gè)壓縮空氣源,進(jìn)一步優(yōu)選地,所述的吹灰裝置和所述的噴吹管共用同一個(gè)壓縮空氣源;
優(yōu)選地,所述的壓縮空氣主管上外設(shè)壓縮空氣支管,所述的壓縮空氣支管的出口端接入所述的噴吹管,壓縮空氣源提供的壓縮空氣經(jīng)加熱裝置加熱后通入噴吹管對(duì)立式殼體底部易積灰區(qū)域進(jìn)行噴吹清灰;
優(yōu)選地,所述的壓縮空氣支管上設(shè)置有調(diào)節(jié)閥。
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