[發(fā)明專利]一種具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010402584.0
• 申請(qǐng)日: 2020-05-13
• 公開（公告）號(hào): CN113671689A
• 公開（公告）日: 2021-11-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐靜;李偉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 安徽中科米微電子技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02B26/08
• 分類號(hào): G02B26/08;B81B7/02
• 代理公司: 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) 31219
• 代理人: 林麗麗

1.一種具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括：

扭轉(zhuǎn)臺(tái)面；

轉(zhuǎn)軸，對(duì)稱設(shè)于所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面的相對(duì)兩側(cè)；

反射鏡面，通過鏡面支撐體設(shè)于所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面的上方；

平衡質(zhì)量塊，設(shè)于所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面的下方。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述反射鏡面和所述鏡面支撐體所組結(jié)構(gòu)的質(zhì)量與所述反射鏡面和所述鏡面支撐體所組結(jié)構(gòu)的質(zhì)心到轉(zhuǎn)軸所在平面的距離的乘積等于所述平衡質(zhì)量塊的質(zhì)量與所述平衡質(zhì)量塊的質(zhì)心到轉(zhuǎn)軸所在平面的距離的乘積。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)包括單軸轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)或雙軸轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，在所述MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)為單軸轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)時(shí)，還包括：

具有轉(zhuǎn)動(dòng)空間的框架，其中，所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面、所述鏡面支撐體、所述反射鏡面及所述平衡質(zhì)量塊構(gòu)成的轉(zhuǎn)動(dòng)體通過所述轉(zhuǎn)軸安裝于所述框架上且部分容置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)空間中；

下梳齒，設(shè)于所述框架與所述轉(zhuǎn)軸平行的兩個(gè)內(nèi)邊緣；

上梳齒，設(shè)于所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面邊緣且與所述下梳齒對(duì)應(yīng)設(shè)置；

若干引線焊盤，設(shè)于所述框架上且與所述下梳齒和所述上梳齒對(duì)應(yīng)電連接。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，在所述MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)為雙軸轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)時(shí)，還包括：

具有轉(zhuǎn)動(dòng)空間的框架，所述框架包括外框架及通過外轉(zhuǎn)軸安裝于所述外框架上的內(nèi)框架；其中，所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面、所述鏡面支撐體、所述反射鏡面及所述平衡質(zhì)量塊構(gòu)成的轉(zhuǎn)動(dòng)體通過所述轉(zhuǎn)軸安裝于所述內(nèi)框架上且部分容置于所述轉(zhuǎn)動(dòng)空間中，所述轉(zhuǎn)軸與所述外轉(zhuǎn)軸垂直設(shè)置；

位于內(nèi)側(cè)的下梳齒，設(shè)于所述內(nèi)框架與所述轉(zhuǎn)軸平行的兩個(gè)內(nèi)邊緣；

位于內(nèi)側(cè)的上梳齒，設(shè)于所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面邊緣且與位于內(nèi)側(cè)的下梳齒對(duì)應(yīng)設(shè)置；

位于外側(cè)的下梳齒，設(shè)于所述外框架與所述外轉(zhuǎn)軸平行的兩個(gè)內(nèi)邊緣；

位于外側(cè)的上梳齒，設(shè)于所述內(nèi)框架的外邊緣且與位于外側(cè)的下梳齒對(duì)應(yīng)設(shè)置；

若干引線焊盤，設(shè)于所述外框架上且與位于內(nèi)側(cè)的下梳齒、位于內(nèi)側(cè)的上梳齒、位于外側(cè)的下梳齒及位于外側(cè)的上梳齒對(duì)應(yīng)電連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)還包括：容置部分所述平衡質(zhì)量塊的轉(zhuǎn)動(dòng)限位槽，設(shè)于所述框架的底部且與所述轉(zhuǎn)動(dòng)空間連通。

7.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面、所述轉(zhuǎn)軸及所述上梳齒的厚度相同且位于同一層，所述上梳齒和所述下梳齒之間無交疊厚度。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，位于所述上梳齒和所述下梳齒之間的所述框架中設(shè)有絕緣隔離層。

9.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面、所述轉(zhuǎn)軸及所述下梳齒的厚度相同且位于同一層，所述上梳齒和所述下梳齒之間無交疊厚度，位于所述上梳齒和所述下梳齒之間的所述框架中設(shè)有絕緣隔離層。

10.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面的厚度、所述轉(zhuǎn)軸的厚度、所述上梳齒和所述下梳齒的總厚度相同，所述上梳齒和所述下梳齒所在層與所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面及所述轉(zhuǎn)軸位于同一層，所述上梳齒和所述下梳齒之間無交疊厚度，位于所述上梳齒和所述下梳齒之間的所述框架中設(shè)有絕緣隔離層。

11.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面的厚度、所述轉(zhuǎn)軸的厚度、所述上梳齒和所述下梳齒的總厚度相同，所述上梳齒和所述下梳齒所在層與所述扭轉(zhuǎn)臺(tái)面及所述轉(zhuǎn)軸位于同一層，所述上梳齒和所述下梳齒之間存在交疊厚度。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有大鏡面的MEMS轉(zhuǎn)鏡結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述鏡面支撐體的形狀包括：實(shí)心圓柱狀、空心圓柱狀、實(shí)心方柱狀或空心方柱狀。