[發明專利]二維布拉格周期掃描成像系統

在審

• 申請號: 202010401956.8
• 申請日: 2020-05-13
• 公開（公告）號: CN111399217A
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 王廣軍;余為偉
• 申請（專利權）人: 荊門市探夢科技有限公司
• 主分類號: G02B26/10
• 分類號: G02B26/10
• 代理公司: 荊門市森皓專利代理事務所(普通合伙) 42253
• 代理人: 王麗

1.二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于，包括：

二維成像元件(1)，其上設有由若干像素點組成的像素陣列，所述像素陣列所在平面為像素陣列平面；

成像鏡組(2)；以及

二維布拉格掃描機構(3)，分別與二維成像元件(1)和/或成像鏡組(2)連接，用于驅動二維成像元件(1)和/或成像鏡組(2)振動以實現微掃描的目的；

其中，二維成像元件(1)和/或成像鏡組(2)的振動在平行于所述像素陣列平面上的分量不為0。

2.根據權利要求1所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：所述二維成像元件(1)和/或成像鏡組(2)的振動在平行于所述像素陣列平面上的分量可以分解為兩個互相垂直的子運動，包括與二維成像元件(1)的像素陣列的行平行的第一子運動以及與二維成像元件(1)的像素陣列的列平行的第二子運動，所述第一子運動頻率為f₁，第二子運動的頻率為f₂，且f₁和f₂均大于6Hz。

3.根據權利要求2所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：所述像素陣列的行的長度為L mm、行間相鄰像素點之間的距離或者平均距離為a₁mm，所述像素陣列的列的長度為W mm、列間相鄰像素點之間的距離或者平均距離為a₂mm，所述第一子運動的振幅為ΔL mm，所述第二子運動的振幅為ΔWmm，滿足：ΔL≤5a₁且ΔW≤5a₂。

4.根據權利要求3所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：f₁＞f₂，且滿足其中M為所述二維成像元件(1)的質量，單位為g。

5.根據權利要求1所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：所述二維成像元件(1)為拍攝感光元件或者投影顯示元件。

6.根據權利要求1所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：所述像素陣列的列數和行數均小于720。

7.根據權利要求1所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：還包括用于縮小像素點有效大小的像素點縮小裝置。

8.根據權利要求3所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：所述成像鏡組(2)在像素陣列平面上的有效光學作用區域內部最大圓形的直徑為D mm，滿足如下關系：

0.9746·D²≥(ΔL+L)²+(ΔW+W)²。

9.根據權利要求8所述的二維布拉格周期掃描成像系統，其特征在于：所述成像鏡組(2)在像素陣列平面上的有效光學作用區域內部最大圓形的直徑為D mm，滿足如下關系：

(0.51·D)²≤(ΔL+L)²+(ΔW+W)²。