[發(fā)明專利]陣列基板及液晶顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010401815.6 | 申請日: | 2020-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN111474788A | 公開(公告)日: | 2020-07-31 |
| 發(fā)明(設計)人: | 于喆;彭邦銀;金一坤 | 申請(專利權)人: | 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362 |
| 代理公司: | 深圳紫藤知識產(chǎn)權代理有限公司 44570 | 代理人: | 唐秀萍 |
| 地址: | 518132 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 液晶顯示 面板 | ||
本申請實施例提供了一種陣列基板及液晶顯示面板。該陣列基板,包括:基板,其上表面設置有低電壓區(qū);第一金屬層,其設置于所述基板上;絕緣層,其設置于所述第一金屬層上,所述絕緣層上設置有多個導電金屬化孔對,每一所述導電金屬化孔對包括兩個導電金屬化孔;第二金屬層,其設置于所述絕緣層上;所述第一金屬層與所述第二金屬層之一上在所述低電壓區(qū)形成有多條低電壓信號線;所述第一金屬層與所述第二金屬層之另一層上形成有至少一條第三輔助走線;每一所述導電金屬化孔對的兩個導電金屬化孔將一所述第三輔助走線的兩端與一所述低電壓信號線的兩端電連接。本申請實施例具有降低RC延遲的有益效果。
技術領域
本申請涉及顯示技術領域,具體而言,涉及一種陣列基板及液晶顯示面板。
背景技術
在8K TFT-LCD液晶顯示面板中,由于尺寸大,信號線路多且長度較大,使得信號線路的負載過大。在LOC時低電壓區(qū)的電阻過大,會導致面內(nèi)RC延遲嚴重,影響顯示面板的顯示質(zhì)量。
因此,現(xiàn)有技術存在缺陷,急需改進。
發(fā)明內(nèi)容
本申請實施例的目的在于提供一種陣列基板及液晶顯示面板,具有降低低電壓區(qū)的電阻,從而達到降低RC延遲的有益效果。
本申請實施例提供了一種陣列基板,包括:
基板,其上表面設置有低電壓區(qū);
第一金屬層,其設置于所述基板上;
絕緣層,其設置于所述第一金屬層上,所述絕緣層上設置有多個導電金屬化孔對,每一所述導電金屬化孔對包括兩個導電金屬化孔;
第二金屬層,其設置于所述絕緣層上;
所述第一金屬層與所述第二金屬層之一上在所述低電壓區(qū)形成有多條低電壓信號線;所述第一金屬層與所述第二金屬層之另一層上形成有至少一條第三輔助走線;每一所述導電金屬化孔對的兩個導電金屬化孔將一所述第三輔助走線的兩端與一所述低電壓信號線的兩端電連接。
可選地,在本申請實施例所述的陣列基板中,所述低電壓信號線的數(shù)量大于所述第三輔助走線的數(shù)量;
所述多條低電壓信號線中的部分低電壓信號走線與所述至少一條第三輔助走線一一對應,且所述第三輔助走線通過導電金屬化孔對與對應所述低電壓信號線并聯(lián)。
可選地,在本申請實施例所述的陣列基板中,所述低電壓信號線的數(shù)量等于所述第三輔助走線的數(shù)量;
所述多條低電壓信號線與所述至少一條第三輔助走線一一對應,且所述第三輔助走線通過導電金屬化孔對與對應所述低電壓信號線并聯(lián)。
可選地,在本申請實施例所述的陣列基板中,所述第一金屬層形成所述至少一條第三輔助走線,所述第二金屬層形成所述多條低電壓信號線。
可選地,在本申請實施例所述的陣列基板中,所述第二金屬層形成所述至少一條第三輔助走線,所述第一金屬層形成所述多條低電壓信號線。
可選地,在本申請實施例所述的陣列基板中,所述多條低電壓信號線包括多條第二低電壓信號線;
所述至少一條第三輔助走線包括多條第四輔助走線;
所述多條第二低電壓信號線中的部分或全部第二低電壓信號線分別通過導電金屬化孔對與所述多條第四輔助走線一一對應地連接,從而使得所述第二低電壓信號線與對應第四輔助走線的并聯(lián)等效電阻為定值。
可選地,在本申請實施例所述的陣列基板中,所述多條第四輔助走線中的部分或全部第四輔助走線具有不同的寬度或者長度。
第二方面,本申請實施例還提供了一種液晶顯示面板,包括彩膜基板、陣列基板以及設置于所述彩膜基板以及陣列基板之間的液晶層;所述陣列基板為上述任一項所述的陣列基板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構中的





