[發明專利]光學移動設備和光學設備

有效

• 申請號: 202010401022.4
• 申請日: 2020-05-13
• 公開（公告）號: CN111948831B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 野田豐人
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B27/64
• 分類號: G02B27/64;G03B5/00
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所 11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種光學移動設備，其被構造成在均與光軸方向正交并且彼此正交的第一方向和第二方向上使光學元件移動，所述光學移動設備包括：

基部構件；

驅動線圈，其由所述基部構件保持；

保持構件，其被構造成保持所述光學元件并在所述第一方向和所述第二方向上移動；

驅動磁體，其被所述保持構件保持，并用作構造成沿所述第一方向和所述第二方向與所述驅動線圈一起驅動所述保持構件的移動致動器；

第一引導構件，其固定于所述保持構件；

第二引導構件，其構造成沿所述第一方向引導所述第一引導構件；以及

第三引導構件，其固定于所述基部構件，并且構造成在所述光軸方向上的在所述第一引導構件的相反側沿所述第二方向引導所述第二引導構件，

其特征在于，在所述光軸方向上所述第一引導構件、所述第二引導構件和所述第三引導構件均不與所述驅動線圈重疊，

其中，所述第三引導構件在與所述光軸方向正交的平面中包括兩個主體，并且

在所述光軸方向上所述第三引導構件的至少一部分比所述驅動線圈薄。

2.根據權利要求1所述的光學移動設備，其特征在于，在所述光軸方向上，相對于所述驅動磁體在所述驅動線圈的相反側布置有磁軛，

所述第一引導構件和所述第二引導構件以及所述第三引導構件的至少一部分被容納在從所述磁軛到所述驅動線圈的在所述光軸方向上的厚度內。

3.根據權利要求2所述的光學移動設備，其特征在于，所述第一引導構件布置成在所述光軸方向上比所述磁軛靠近所述第二引導構件。

4.根據權利要求1所述的光學移動設備，其特征在于，還包括磁屏蔽構件，所述磁屏蔽構件在所述光軸方向上相對于所述驅動線圈布置在所述驅動磁體的相反側，

所述第三引導構件的至少一部分在所述光軸方向上比所述磁屏蔽構件薄。

5.根據權利要求4所述的光學移動設備，其特征在于，磁軛在所述光軸方向上布置在相對于所述驅動磁體在所述驅動線圈的相反側，

所述第一引導構件、所述第二引導構件和所述第三引導構件被容納在從所述磁軛到所述磁屏蔽構件的在所述光軸方向上的厚度內。

6.根據權利要求1所述的光學移動設備，其特征在于，所述第二引導構件在所述光軸方向上比所述驅動磁體薄。

7.一種光學移動設備，其被構造成在均與光軸方向正交并且彼此正交的第一方向和第二方向上使光學元件移動，所述光學移動設備包括：

基部構件；

驅動線圈，其由所述基部構件保持；

保持構件，其被構造成保持所述光學元件并在所述第一方向和所述第二方向上移動；

驅動磁體，其被所述保持構件保持，并用作構造成沿所述第一方向和所述第二方向與所述驅動線圈一起驅動所述保持構件的移動致動器；

第一引導構件，其固定于所述保持構件；

第二引導構件，其構造成沿所述第一方向引導所述第一引導構件；以及

第三引導構件，其固定于所述基部構件，并且構造成在所述光軸方向上的在所述第一引導構件的相反側沿所述第二方向引導所述第二引導構件，

磁屏蔽構件，其在所述光軸方向上相對于所述驅動線圈布置在所述驅動磁體的相反側，

其特征在于，在所述光軸方向上所述第一引導構件、所述第二引導構件和所述第三引導構件均不與所述驅動線圈或所述磁屏蔽構件重疊，

其中，所述第三引導構件在與所述光軸方向正交的平面中包括兩個主體，并且

在所述光軸方向上所述第三引導構件的至少一部分的厚度比所述磁屏蔽構件薄。

8.根據權利要求1至7中的任一項所述的光學移動設備，其特征在于，所述第一引導構件和所述第二引導構件具有沿所述第一方向的長度方向以及彼此相對的槽部，

所述第二引導構件和所述第三引導構件具有沿所述第二方向的長度方向以及彼此相對的槽部，并且

為了所述第一方向和所述第二方向上的引導，彼此相對的所述槽部將滾動構件夾在中間。