[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010400956.6
• 申請(qǐng)日: 2020-05-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111584744A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-08-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/52
• 分類號(hào): H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 唐秀萍

1.一種顯示面板，其特征在于，包括：

一基板；

一有機(jī)發(fā)光器件層，設(shè)于所述基板上；

一第一封裝層，覆蓋所述有機(jī)發(fā)光器件層；

一第二封裝層，設(shè)于所述第一封裝層遠(yuǎn)離所述有機(jī)發(fā)光器件層的一表面上；

其中，所述第一封裝層包括：

氧化硅層，設(shè)于所述有機(jī)發(fā)光器件層上；

氮化硅層，設(shè)于所述氧化硅層上。

2.如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，還包括：

一覆蓋層，設(shè)于所述氧化硅層和所述有機(jī)發(fā)光器件層之間；

一蓋板，設(shè)于所述第二封裝層遠(yuǎn)離所述第一封裝層的一表面上。

3.如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述有機(jī)發(fā)光器件層包括：

發(fā)光層，設(shè)于所述基板上；

陰極層，設(shè)于所述發(fā)光層遠(yuǎn)離所述基板的一表面上。

4.如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述第二封裝層包括：

第一膠層，設(shè)于所述氮化硅層上，并對(duì)應(yīng)于所述有機(jī)發(fā)光器件層；

第二膠層，設(shè)于所述氮化硅層上，并包圍所述第一膠層；

第三膠層，設(shè)于所述氮化硅層上，并包圍所述第二膠層；

其中，所述第二膠層中具有吸濕劑。

5.如權(quán)利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述氮化硅層的寬度大于所述氧化硅層的寬度。

6.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

提供一基板；

在所述基板上形成有機(jī)發(fā)光器件層；

在所述有機(jī)發(fā)光器件層上形成第一封裝層；

在所述第一封裝層上形成第二封裝層；

其中，在所述有機(jī)發(fā)光器件層上形成第一封裝層步驟中包括：

在所述有機(jī)發(fā)光器件層上沉積一層氧化硅材料，形成氧化硅層；

在所述氧化硅層上沉積一層氮化硅材料，形成氮化硅層。

7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板制備方法，其特征在于，在所述基板上形成有機(jī)發(fā)光器件層步驟中包括以下步驟：

在所述基板上通過(guò)蒸鍍法或噴墨打印法形成發(fā)光層；

在發(fā)光層上通過(guò)磁控濺射法或蒸鍍法形成陰極層。

8.如權(quán)利要求6所述的顯示面板制備方法，其特征在于，

在所述基板上形成OLED器件步驟后還包括以下步驟：

在所述OLED器件上通過(guò)蒸鍍法形成覆蓋層；

在所述第一封裝層上形成第二封裝層步驟前還包括以下步驟：

提供一蓋板。

9.如權(quán)利要求8所述的顯示面板制備方法，其特征在于，在所述第一封裝層上形成第二封裝層步驟中包括：

在所述蓋板上的邊緣依次形成第二膠層和第三膠層；

在所述第二膠層遠(yuǎn)離所述第二膠層的一側(cè)填充膠材，并通過(guò)真空壓合法將所述膠材貼合在所述第一封裝層上；

通過(guò)紫外光照射或加熱使膠材固化形成第一膠層。

10.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5中任意一項(xiàng)所述的顯示面板。