[發明專利]一種耐彎折復合云母紙帶及其制備方法

有效

• 申請號: 202010400301.9
• 申請日: 2020-05-13
• 公開（公告）號: CN111560794B
• 公開（公告）日: 2022-04-08
• 發明（設計）人: 吳海峰;趙建虎;蘇潛;趙俊軍
• 申請（專利權）人: 湖南睿達云母新材料有限公司
• 主分類號: D21H27/30
• 分類號: D21H27/30;D21H27/12;D21H13/44;D21H13/26;D21H17/67;D21H19/34;D21F11/08;B32B9/00;B32B9/06;B32B29/00;B32B3/24;B32B7/12;B32B37/02;B32B37/06
• 代理公司: 長沙德恒三權知識產權代理事務所(普通合伙) 43229
• 代理人: 丁茂林

1.一種耐彎折復合云母紙帶，其特征在于，包括云母紙基帶以及成型于云母紙基帶表面的改性PMIA絕緣紙，所述云母紙基帶與所述改性PMIA絕緣紙之間還成型有石墨烯膜片，所述石墨烯膜片為鍍銅石墨烯膜片或者鍍鎳石墨烯膜片，表面開有陣列排布的鏤空孔，石墨烯膜片雙面浸膠，以通過熱壓成型方式使云母紙基帶與改性PMIA絕緣紙成型為一體；所述云母紙基帶包括2～3層云母紙單片層，且相鄰的云母紙單片層之間均勻填充有納米纖絲化纖維素；

所述石墨烯膜片的表面鏤空率為8～15％，且所述石墨烯膜片的表面膠層厚度不超過30μm；

所述改性PMIA絕緣紙通過以下方式制得：

以間位芳綸纖維為原料，通過加入硅烷偶聯劑KH550中進行改性處理后，與間位芳綸漿粕均勻混合制漿，然后在漿料中加入納米級SiO₂與TiO₂粉末，通過超聲分散后進行抄漿制紙獲得的改性PMIA絕緣紙；

在所述改性PMIA絕緣紙制備過程中，作為原料的間位芳綸纖維包括占質量比1/3的單絲長度9～12mm的長間位芳綸纖維單絲以及質量比2/3的單絲長度5～7mm的短間位芳綸纖維單絲。

2.根據權利要求1所述的耐彎折復合云母紙帶，其特征在于，耐彎折復合云母紙帶的總厚度為0.8mm～1.5mm，而所述云母紙基帶的厚度為0.5～1mm，且不小于云母紙帶的總厚度的1/2。

3.根據權利要求1所述的耐彎折復合云母紙帶，其特征在于，所述云母紙基帶采用的云母紙為天然白云母紙或者天然金云母紙。

4.根據權利要求1所述的耐彎折復合云母紙帶，其特征在于，所述云母紙單片層之間的納米纖絲化纖維素的填充量為單層云母紙單片層單位面積內克重的15～20％。

5.根據權利要求1所述的耐彎折復合云母紙帶，其特征在于，所述云母紙單片層中的云母紙單片層均為云母鱗片的粒徑控制在-50目～+200目的細漿云母紙。

6.根據權利要求1所述的耐彎折復合云母紙帶，其特征在于，所述云母紙單片層中的云母紙單片層自改性PMIA絕緣紙外側向改性PMIA絕緣紙側采用的原料云母鱗片粒徑連續變小。

7.一種耐彎折復合云母紙帶的制備方法，用于制備具有如權利要求1所述技術特征的耐彎折復合云母紙帶，該制備方法具體包括以下操作步驟：

S1、選擇天然白云母與天然金云母作為原料，依次進行水洗、烘干得到干云母片，將上述干云母片煅燒后隨爐冷卻后至室溫后，投送至高壓水力破碎機中利用水力破碎剝分成云母鱗片；

S2、將破碎后的云母鱗片進行洗滌和過濾篩分，選取合適粒徑的云母鱗片制漿，并利用圓網云母紙機進行抄造，抄造過程中上漿過程分兩次或者三次進行，每次上漿進行兩重或者三重圓網上漿，每次上漿過程完成后在對應的云母紙單片層表面噴涂納米纖絲化纖維素；

S3、將步驟S2獲得的云母紙通過脫水、烘干，即可得到云母紙基帶；

S4、將符合條件的間位芳綸纖維通過硅烷偶聯劑KH550進行改性處理后用去離子水沖洗，然后與芳綸漿粕按照3:2～2:1的比例進行混合；同時，將納米SiO₂粉末與納米TiO₂粉末加入去離子水中分散均勻后加入上述漿液中利用超聲分散設備輔助繼續進行超聲分散處理，處理完畢后用制紙設備成型，得到改性PMIA絕緣紙；其中，納米SiO₂粉末與納米TiO₂粉末的加入比例為3:1～5:1，加入總量為間位芳綸纖維的5‰～12‰；

S5、將帶鏤空孔的石墨烯膜片進行雙面上膠處理，鋪放于步驟S3獲得的云母紙基帶表面，然后在石墨烯膜片表面鋪放改性PMIA絕緣紙，在改性PMIA絕緣紙表面熱壓成型，成型后裁邊即得到成品云母紙帶。