[發(fā)明專利]一種面料涂層多層結構制作調控系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010400060.8
• 申請日: 2020-05-13
• 公開（公告）號: CN111729775A
• 公開（公告）日: 2020-10-02
• 發(fā)明（設計）人: 劉炬;黃振興
• 申請（專利權）人: 蘇州明池紡織科技有限公司
• 主分類號: B05B12/00
• 分類號: B05B12/00;B05B12/08;D06N3/00;G06T7/00;G06F16/22
• 代理公司: 蘇州圓融專利代理事務所(普通合伙) 32417
• 代理人: 趙磊

本發(fā)明公開了一種面料涂層多層結構制作調控系統(tǒng)，包括噴涂模塊，所述噴涂模塊通過參數(shù)調控模塊連接有涂料存儲模塊，所述噴涂模塊用于向面料表面噴涂涂層，所述參數(shù)調控模塊用于工作人員調整噴涂模塊的各項參數(shù)，所述參數(shù)調控模塊上連接有工藝管理模塊，所述工藝管理模塊用于工作人員設計面料涂層的層數(shù)、各涂層的厚度、涂層的先后次序，本發(fā)明為工藝設計人員提供了方便的工藝設計平臺，并能夠對工藝參數(shù)進行記錄，當需要生產已有的產品時，從數(shù)據(jù)庫中可以直接調取舊有的工藝參數(shù)，實現(xiàn)自動化調節(jié)，且通過檢測模塊對面料進行實時監(jiān)控，及時檢測面料缺陷，減少損失。

技術領域

本發(fā)明涉及面料生產技術領域，具體為一種面料涂層多層結構制作調控系統(tǒng)。

背景技術

涂層面料是近年來新興起的一種面料，涂層面料利用溶劑或水將所需要的涂層膠粒（有PU膠，A/C膠，PVC,PE膠）等溶解成流涎狀，再以一種某種方式（圓網(wǎng)，刮刀或者滾筒）均勻的涂在布料上（有棉，滌綸，錦綸等基材），然后再經過烘箱內溫度的固著，使在面料表面形成一層均勻的覆蓋膠料。通過調整涂層的厚度、成分，能夠使面料具備傳統(tǒng)面料不具有的功能性。但是目前的涂層面料生產中，涂層的制作調控都是通過人工跟線觀察，管理效率低下。

發(fā)明內容

本發(fā)明的目的在于提供一種面料涂層多層結構制作調控系統(tǒng)，以解決上述背景技術中提出的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下技術方案：

一種面料涂層多層結構制作調控系統(tǒng)，包括噴涂模塊，所述噴涂模塊通過參數(shù)調控模塊連接有涂料存儲模塊，所述噴涂模塊用于向面料表面噴涂涂層，所述參數(shù)調控模塊用于工作人員調整噴涂模塊的各項參數(shù)，所述參數(shù)調控模塊上連接有工藝管理模塊，所述工藝管理模塊用于工作人員設計面料涂層的層數(shù)、各涂層的厚度、涂層的先后次序，并將設計的工藝參數(shù)發(fā)送給參數(shù)調控模塊，由參數(shù)調控模塊控制噴涂模塊進行動作，所述工藝管理模塊上連接有工藝信息記錄模塊，所述工藝信息記錄模塊通過工藝信息管理模塊連接有數(shù)據(jù)庫，所述工藝信息記錄模塊將工藝管理模塊設計出來的參數(shù)生成工藝表，并記錄到數(shù)據(jù)庫中，所述工藝信息管理模塊用于對數(shù)據(jù)庫中存儲的工藝表進行增刪查找操作。

優(yōu)選的，所述參數(shù)調控模塊所調整的參數(shù)包括噴涂壓力、與面料間距、移動范圍、移動方向、移動速度。

優(yōu)選的，所述涂料存儲模塊上連接有監(jiān)控模塊。

優(yōu)選的，所述監(jiān)控模塊包括溫度傳感器、濕度傳感器和壓力傳感器，所述監(jiān)控模塊還包括警報模塊，在監(jiān)測到溫度、濕度、壓力任一不正常數(shù)據(jù)時，警報模塊向工作人員發(fā)出警示。

優(yōu)選的，所述噴涂模塊連接有檢測模塊，所述檢測模塊用于檢測面料的噴涂質量，所述檢測模塊通過產品信息記錄模塊將產品信息記錄到數(shù)據(jù)庫中，并使產品信息與制備該產品的工藝表一一對應。

優(yōu)選的，所述檢測模塊包括圖像采集模塊、圖像處理模塊、比對模塊，所述圖像采集模塊用于采集面料圖像，所述圖像處理模塊對采集到的面料圖像進行處理，所述比對模塊對處理后的圖像進行比對檢測是否存在缺陷，并在檢測到缺陷時，向工作人員發(fā)出警示。

優(yōu)選的，所述圖像采集模塊包括工業(yè)相機和補光燈，所述圖像處理模塊對圖像的處理方式具體為：對圖像進行噪聲濾除、圖像增強和灰度化處理，尺寸歸一化為24*24，借助積分圖，對圖像的水平、垂直和對角線三個方向上進行特征提取，圖像預處理提取的特征值包括圖像的能量、方差、極差和熵。

優(yōu)選的，所述比對模塊包括標準圖像庫，所述標準圖像庫中存儲有若干事先拍攝好的標準圖像的特征值，所述比對模塊中預先設定有各項特征值的偏差閾值，比對模塊將圖像處理模塊傳送來的圖像特征值與標準圖像庫中的特征值進行比對，若是特征值的差異超出閾值，說明存在缺陷，則比對模塊發(fā)出警示。