[發明專利]平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝和鍍膜裝置在審
| 申請號: | 202010392690.5 | 申請日: | 2020-05-11 |
| 公開(公告)號: | CN111499407A | 公開(公告)日: | 2020-08-07 |
| 發明(設計)人: | 席紅安;麥保祥;劉敏;徐春鋒;俞斌;盧慶賢 | 申請(專利權)人: | 浙江中誠環境研究院有限公司 |
| 主分類號: | C04B41/45 | 分類號: | C04B41/45;C04B41/81 |
| 代理公司: | 杭州裕陽聯合專利代理有限公司 33289 | 代理人: | 溫艷華 |
| 地址: | 310051 浙江省杭州市濱*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 平板 陶瓷 分離 鍍膜 工藝 裝置 | ||
1.一種平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝,其特征在于,包括以下步驟:
超聲霧化噴涂步驟:通過恒流注射泵系統將鍍膜液以預定的流量輸送到超聲霧化組件中,超聲霧化組件通過超聲波震動將鍍膜液漿料霧化分散成細微顆粒,同時通過供氣裝置將壓縮空氣通入超聲霧化組件中,利用壓縮空氣氣流帶動超聲霧化后的細微顆粒沿預定方向噴至所述平板式陶瓷分離膜基板,從而形成膜層;
烘干步驟:將所述平板式陶瓷分離膜基板移動至烘干設備,以將噴涂的膜層加熱干燥;
高溫處理步驟:將所述平板式陶瓷分離膜基板進行高溫處理,使得噴涂的膜層形成多孔陶瓷結構,得到平板式陶瓷分離膜。
2.根據權利要求1所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝,其特征在于,在超聲霧化噴涂步驟中,鍍膜液的粘度小于90cps,噴涂量為40-300ml/m2,噴涂速度為2-30mL/min,超聲波頻率為50-120kHz,載氣壓力小于0.06MPa,霧化后的細微顆粒直徑為5-50μm,膜層的厚度為0.2-20μm。
3.根據權利要求1所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝,其特征在于,在超聲霧化噴涂步驟中,通過超聲霧化組件的多個霧化噴頭向所述平板式陶瓷分離膜基板噴涂鍍膜液。
4.根據權利要求1所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝,其特征在于,在烘干步驟中,所述烘干設備采用熱風吹掃方式進行烘干,烘干溫度為40-100℃,烘干時間為2-10min。
5.根據權利要求1-4任一所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝,其特征在于,所述平板式陶瓷分離膜的鍍膜工藝包括:
翻轉步驟:當所述平板式陶瓷分離膜基板的其中一面被噴涂形成所述膜層并通過所述烘干設備烘干之后,將所述平板式陶瓷分離膜基板翻轉180°,然后對所述平板式陶瓷分離膜基板的另外一面進行噴涂和烘干。
6.一種平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置,其特征在于,包括:
鍍膜機,包括恒流注射泵系統、超聲霧化組件以及供氣裝置,所述恒流注射泵系統和供氣裝置均與所述超聲霧化組件連通,所述恒流注射泵系統將鍍膜液以預定的流量輸送到所述超聲霧化組件中,所述超聲霧化組件通過超聲波震動將鍍膜液漿料霧化分散成細微顆粒,同時所述供氣裝置將壓縮空氣通入超聲霧化組件中,利用壓縮空氣氣流帶動超聲霧化后的細微顆粒沿預定方向噴至平板式陶瓷分離膜基板,從而形成膜層;
烘干設備,對噴涂后形成有膜層的所述平板式陶瓷分離膜基板進行烘干;
高溫處理設備,將后烘干后的所述平板式陶瓷分離膜基板進行高溫處理,使得噴涂的膜層形成多孔陶瓷結構,得到平板式陶瓷分離膜。
7.根據權利要求6所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置包括翻轉裝置,所述翻轉裝置包括設置于所述平板式陶瓷分離膜基板兩側的夾具和抓手,所述抓手通過吸附的方式或固定連接的方式抓取所述夾具并將所述平板式陶瓷分離膜基板翻轉180°。
8.根據權利要求6所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置包括翻轉裝置,所述翻轉裝置包括相互連接的夾具和電動旋轉機構,所述夾具的外表面噴涂有聚四氟乙烯涂料或粘貼有美紋紙,所述夾具可操作地夾持所述平板式陶瓷分離膜基板后,所述電動旋轉機構將所述平板式陶瓷分離膜基板翻轉180°。
9.根據權利要求6-8任一所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置包括輸送機構,所述鍍膜機和所述烘干設備之間通過所述輸送機構連接以傳輸所述平板式陶瓷分離膜基板,所述輸送機構為傳送帶,所述傳送帶上設有凹槽,或者所述傳送帶設有支撐凸部以使得放置的所述平板式陶瓷分離膜基板位置高出所述傳送帶。
10.根據權利要求6-8任一所述的平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述平板式陶瓷分離膜的鍍膜裝置包括輸送機構,所述鍍膜機和所述烘干設備之間通過所述輸送機構連接以傳輸所述平板式陶瓷分離膜基板,所述輸送機構為傳送鏈,所述鍍膜機的噴涂箱內設有擋板,以防止鍍膜液噴到傳送鏈上。
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