[發明專利]一種高穩定性的尼龍6/改性籠型聚倍半硅氧烷納米粒子復合材料的制備方法

在審

• 申請號: 202010386329.1
• 申請日: 2020-05-09
• 公開（公告）號: CN111560169A
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發明（設計）人: 張春華;劉宏鵬;張愛臣
• 申請（專利權）人: 揚州尼爾工程塑料有限公司
• 主分類號: C08L77/02
• 分類號: C08L77/02;C08L83/10;C08G77/455;C08G69/16;B82Y30/00
• 代理公司: 常州市夏成專利事務所(普通合伙) 32233
• 代理人: 王敏

1.一種高穩定性的尼龍6/改性籠型聚倍半硅氧烷納米粒子復合材料的制備方法，其特征在于：所述方法具體步驟如下：

步驟一，制備聚對苯二酰對苯二胺接枝改性POSS納米粒子：

S1：在室溫下，稱量1份的對苯二甲酰氯和15～30份的無水二甲基乙酰胺，將兩者混合，得到對苯二甲酰氯與二甲基乙酰胺的混合溶液A；

S2：稱量0.005～0.04份的NH2-POSS與0.96～0.995份的對苯二胺與15～30份的無水二甲酰胺，將兩者混合，得到對苯二胺、NH2-POSS與二甲基乙酰胺的混合溶液B；

S3：在室溫下，將S2工序中的混合溶液1份的B緩慢得滴加到1份A溶液中，室溫攪拌兩小時后，抽濾得到固體，并真空干燥24小時，得到聚對苯二酰對苯二胺接枝改性的POSS納米粒子；

步驟二，制備高穩定性的MCPA6/改性POSS納米粒子復合材料：

稱量100份的己內酰胺單體于三口燒瓶中，70℃熔融后，升高至130℃，0.93MPa真空度下脫水20 min，溫度在升高至160℃，接觸真空后，迅速加入0.1～0.3份的甲苯二異氰酸酯(TDI，含2，4－甲苯二異氰酸酯80%和2，6－甲苯二異氰酸酯20%)與0.5～3.5份步驟一中制備的改性POSS，充分混合后澆注入事先預熱至170℃的模具中，聚合40min，趁熱脫模，即得到澆注尼龍6/改性POSS納米粒子復合材料制品。

2.根據權利要求1所述的一種高穩定性的尼龍6/改性籠型聚倍半硅氧烷納米粒子復合材料的制備方法，其特征在于：所述步驟一中，NH2-POSS的份數為0.005～0.04份，對苯二胺的份數為0.96～0.995份；所述步驟二中，己內酰胺單體和聚對苯二酰對苯二胺改性POSS的質量比為100：0.5～3.5。