[發明專利]基本場磁體裝置、磁共振斷層造影系統和測量方法

在審

• 申請號: 202010386300.3
• 申請日: 2020-05-09
• 公開（公告）號: CN111913142A
• 公開（公告）日: 2020-11-10
• 發明（設計）人: 斯特凡·波佩斯庫;馬庫斯·韋斯特
• 申請（專利權）人: 西門子醫療有限公司
• 主分類號: G01R33/381
• 分類號: G01R33/381;G01R33/385;G01R33/48;A61B5/055
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 張春水;周濤

1.一種用于磁共振斷層造影系統(1)的基本場磁體裝置(40)，

所述基本場磁體裝置(40)具有多個在空間上彼此分離的基本場磁體部段(44)，以便分別產生具有限定的部段主場方向(R1)的預期磁場，

其中，所述基本場磁體部段(44)中的至少兩個基本場磁體部段彼此設置成，使得所述至少兩個基本場磁體部段的預期磁場的部段主場方向(R1)彼此成偏轉角地伸展，使得所述基本場磁體部段(44)的預期磁場合成為預期基本磁場(B0)，其中，所述基本磁場(B0)具有帶有環形分布形狀的基本磁體主場方向(R0)。

2.根據權利要求1所述的基本場磁體裝置，所述基本場磁體裝置包括至少三個基本場磁體部段(44)，所述至少三個基本場磁體部段設置成，使得所述基本磁體主場方向(R0)具有平面環的形狀、優選地螺旋管的形狀或帶有嵌入的直通道的螺旋管的形狀。

3.根據上述權利要求中任一項所述的基本場磁體裝置，其中，至少兩個相鄰的基本場磁體部段(44)的磁場的部段主場方向的偏轉角為至少5°、優選地至少30°、特別優選地至少45°。

4.根據上述權利要求中任一項所述的基本場磁體裝置，所述基本場磁體裝置包括至少一組(41，42)基本場磁體部段(44)，所述至少一組基本場磁體部段星形地圍繞至少一個中心軸線(A)設置，優選地旋轉對稱地設置，

其中，特別優選地在N個基本場磁體部段(44)的情況下，存在360°/N的旋轉對稱性。

5.根據上述權利要求中任一項所述的基本場磁體裝置，所述基本場磁體裝置包括一個基本場磁體部段(44)或一組(41，42)基本場磁體部段(44)，所述一個基本場磁體部段或所述一組基本場磁體部段構建為使所述預期基本磁場(B0)的基本磁體主場方向(R0)偏轉至少60°、優選地至少90°、進一步優選地至少180°的總偏轉角。

6.根據上述權利要求中任一項所述的基本場磁體裝置，其中，基本場磁體部段(44)具有線圈繞組(25)，所述線圈繞組產生預期磁場，所述預期磁場沿著橫向于所述基本場磁體部段(44)的部段主場方向(R1)的方向變得更強，

其中，所述線圈繞組(25)優選地設計成，使得一個繞組的在至少一個空間方向上的直徑與該繞組的相鄰的繞組相比減小，并且該繞組的中心更緊密地靠置于所述基本場磁體部段(44)的外側壁(34)。

7.一種磁共振斷層造影系統(1)，所述磁共振斷層造影系統包括根據上述權利要求中任一項所述的基本場磁體裝置(40)。

8.根據權利要求7所述的磁共振斷層造影系統(1)，所述磁共振斷層造影系統包括所述預期基本磁場內的多個測量站(M1，M2，M3，M4，M5，M6)，

其中，所述測量站(M1，M2，M3，M4，M5，M6)優選地設置在各兩個基本場磁體部段(44)之間和/或設置在基本場磁體部段(44)內的患者通道(3)中，

其中，基本場磁體部段(44)優選地構成為壁部(W)和/或設置在兩個測量站(M1，M2，M3，M4，M5，M6)之間的壁部(W)中。

9.根據權利要求8所述的磁共振斷層造影系統(1)，其中，至少兩個測量站(M1，M2，M3，M4，M5，M6)設置在具有相反的基本磁體主場方向(R0)的區域中，其中，所述測量站(M1，M2，M3，M4，M5，M6)優選地彼此并排地設置，并且特別優選地處于一個平面上。