[發明專利]利用可聚焦X射線反向散射檢測器的非破壞性檢查方法、系統和裝置

在審

• 申請號: 202010385983.0
• 申請日: 2020-05-09
• 公開（公告）號: CN111982942A
• 公開（公告）日: 2020-11-24
• 發明（設計）人: M·薩法伊
• 申請（專利權）人: 波音公司
• 主分類號: G01N23/20
• 分類號: G01N23/20
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 姚遠

1.一種用于非破壞性地檢查目標的方法(100)(200)，所述方法包括：

將非破壞性X射線反向散射檢測裝置(10)(30)定位(102)到目標(18)(38)近側，所述目標具有目標表面(18a)(38a)，所述目標表面具有目標表面幾何形狀，所述X射線反向散射裝置包括：

被配置以發射X射線束(13)(33)的X射線輻射源(12)(32)，所述X射線束(13)(33)被配置以至少部分地穿透所述目標表面；

與所述X射線輻射源通信的準直儀(14)(34)，所述準直儀被配置以利用由所述X射線輻射源發射的X射線輻射的一部分來形成束；

柔性X射線反向散射檢測器(20)(40)，所述柔性X射線反向散射檢測器被配置以響應于所述束遇到所述目標來檢測所形成的X射線反向散射，所述X射線反向散射檢測器包括：

柔性X射線反向散射檢測器基底(20a)(40a)；和

至少一層的X射線閃爍材料(22)(42)，所述X射線閃爍材料的層被配置以基本上覆蓋所述柔性X射線反向散射檢測器基底；

將所述X射線反向散射檢測器定向(104)成預定的檢測器幾何形狀，所述預定的幾何形狀基本上接近所述目標表面幾何形狀；

向所述目標發射(106)X射線束；和掃描(108)所述X射線束。

2.權利要求1所述的方法，其還包括：

間接檢測(110)所述X射線閃爍材料上的X射線反向散射。

3.權利要求1或2所述的方法，其還包括：

響應于在所述X射線閃爍材料上檢測到的X射線反向散射來產生圖像(112)數據；

利用所述圖像數據形成(116)目標圖像；和

非破壞性地檢查(118)所述目標。

4.權利要求1或2所述的方法，其中將所述柔性X射線反向散射檢測器定向成預定的幾何形狀還包括：

聚焦(105)所述柔性X射線反向散射檢測器以使從所述目標返回所述柔性X射線反向散射檢測器并撞擊所述柔性X射線反向散射檢測器的X射線反向散射的量最大化。

5.權利要求1或2所述的方法，其中將所述柔性X射線反向散射檢測器定向成預定的幾何形狀還包括：

橫跨所述柔性X射線反向散射檢測器的長度，在閃爍材料層與所述目標表面之間建立基本上恒定的距離；和

在X射線掃描期間維持所述基本上恒定的距離。

6.一種柔性X射線反向散射檢測器(20)(40)，其包括：

柔性X射線反向散射檢測器基底(20a)(40a)；和

至少一層的X射線閃爍材料(22)(42)，所述X射線閃爍材料的層被配置以基本上覆蓋所述柔性X射線反向散射檢測器基底的至少一個表面。

7.權利要求6所述的柔性X射線反向散射檢測器，其中所述柔性X射線反向散射檢測器基底包含一件式柔性基底。

8.權利要求6或7所述的柔性X射線反向散射檢測器，其中所述柔性X射線反向散射檢測器基底包含柔性基底材料，所述柔性基底材料包括含有機碳的材料。

9.權利要求6或7所述的柔性X射線反向散射檢測器，其中所述柔性X射線反向散射檢測器基底包括以下中的至少一種：碳基硅氧烷材料；聚萘二甲酸乙二醇酯、聚-4-乙烯基苯酚；及其組合。

10.權利要求6或7所述的柔性X射線反向散射檢測器，其中所述柔性X射線反向散射檢測器基底的厚度的范圍是約50nm至約100nm。