[發明專利]測量系統和方法

在審

• 申請號: 202010380355.3
• 申請日: 2020-05-09
• 公開（公告）號: CN113624156A
• 公開（公告）日: 2021-11-09
• 發明（設計）人: 陳魯;楊樂;馬研忠;張威;李小輝
• 申請（專利權）人: 深圳中科飛測科技有限公司
• 主分類號: G01B11/24
• 分類號: G01B11/24;H01L21/66
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種測量系統，其特征在于，包括：

光源，被配置為產生原始光束，其中，從被測物體的被測區域返回的所述原始光束形成返回光束；

光學組件，被配置為根據所述返回光束得到待處理光束，其中，至少部分所述待處理光束為第一光束；

第一探測裝置，被配置為根據所述第一光束得到第一探測信息；

移動設備，被配置為使所述光學組件與所述被測物體沿所述光學組件的光軸方向相對移動；和

處理系統，被配置為根據多個第一時刻中每個第一時刻下的所述第一探測信息，確定在每個第一時刻下所述光學組件與所述被測物體的固定平面之間的實際距離。

2.根據權利要求1所述的測量系統，其特征在于，所述光學組件包括：

第一分光器，被配置為將所述原始光束分為參考光束和入射到所述被測區域的物光束，其中，從所述被測區域返回所述光學組件的所述物光束形成所述返回光束；和

參考鏡，被配置為使所述參考光束沿預設軌跡傳播以得到預干涉光束，其中，所述預干涉光束和所述返回光束干涉以得到所述待處理光束；

所述第一探測信息包括所述待處理光束中預定波長的光的強度。

3.根據權利要求2所述的測量系統，其特征在于，

所述參考鏡被配置為通過反射所述參考光束，使所述參考光束沿預設軌跡傳播以得到預干涉光束；

所述參考鏡和所述第一分光器均為半透半反鏡，并且，所述參考鏡和所述第一分光器平行設置；

或者，所述參考鏡為反射鏡。

4.根據權利要求1或2所述的測量系統，其特征在于，還包括：

第二探測裝置，被配置為根據第二光束得到第二探測信息，所述第二光束為部分所述返回光束或部分所述待處理光束，所述第二探測信息表征所述光學組件與所述被測區域之間在所述光學組件的光軸方向上的相對距離；

所述處理系統還被配置為獲取所述第二探測信息為預設探測信息時的第一時刻作為特征時刻；獲取所述特征時刻下的所述光學組件與所述固定平面之間的所述實際距離；

根據所述特征時刻下的所述光學組件與所述固定平面之間的所述實際距離，確定所述被測區域的高度信息。

5.根據權利要求4所述的測量系統，其特征在于，還包括：

第二分光器，被配置為對所述返回光束或所述待處理光束進行分光，以得到所述第二光束。

6.根據權利要求5所述的測量系統，其中，所述光學組件還包括：

第一鏡頭，被配置為收集所述返回光束，所述第一光束由至少部分所述第一鏡頭收集的所述返回光束形成；或者，所述第一鏡頭被配置為收集所述待處理光束，所述第一光束由至少部分所述第一鏡頭收集的所述待處理光束形成。

7.根據權利要求6所述的測量系統，其特征在于，

當所述第一鏡頭被配置為收集所述返回光束時，所述第二分光器被配置為將所述第一鏡頭收集的所述返回光束進行分光，以形成所述第二光束和第三光束，所述光學組件被配置為根據所述第三光束得到所述待處理光束；

當所述第一鏡頭被配置為收集所述待處理光束時，所述第二分光器被配置為對所述第一鏡頭收集的所述待處理光束進行分光，以形成所述第一光束和所述第二光束。

8.根據權利要求6所述的測量系統，其特征在于，所述光學組件還包括：

第二鏡頭，被配置為收集所述第二光束。

9.根據權利要求8所述的測量系統，其特征在于，：

所述第二分光器被配置為對所述返回光束進行分光，以得到所述第二光束，所述第二鏡頭使所述第二光束的中心軸平行于所述光學組件的移動方向；

所述第二分光器與所述光學組件固定連接。

10.根據權利要求7所述的測量系統，其特征在于，

所述光學組件被配置為相對于所述第二分光器移動。