[發(fā)明專(zhuān)利]一種提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010375323.4
• 申請(qǐng)日: 2020-05-07
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111710590A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳軍;馬騰;韋奕;曲華松;曾海波
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 南京理工大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/02
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/02
• 代理公司: 南京蘇創(chuàng)專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 32273
• 代理人: 鳳婷

1.一種提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法，其特征在于：在不改變外在條件的前提下，基于激光直寫(xiě)技術(shù)來(lái)刻蝕鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜，以提高其偏振度，具體包括以下步驟：

步驟1：清洗基片；

步驟2：將步驟1中清洗后的基片烘干后，放入U(xiǎn)V O₃清洗機(jī)中繼續(xù)清洗；

步驟3：將步驟2清洗后的基片放在制膜設(shè)備上，并用鈣鈦礦量子點(diǎn)材料在清洗后的基片上制備薄膜，得到鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜；

步驟4：激光直寫(xiě)掃描鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法，其特征在于：所述步驟1中使用超聲清洗機(jī)清洗基片，具體包括以下操作步驟：

步驟1.1：將基片置于添加有洗滌劑的容器內(nèi)，

步驟1.2：容器置于超聲清洗機(jī)中，并在超聲清洗機(jī)中加入一定量的水，

步驟1.3：打開(kāi)超聲清洗機(jī)對(duì)基片進(jìn)行超聲清洗。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法，其特征在于：所述步驟4的具體操作步驟如下：

步驟4.1：使用三維電動(dòng)位移臺(tái)控制軟件，根據(jù)預(yù)定設(shè)計(jì)的圖形來(lái)編輯平移臺(tái)移動(dòng)路徑及速度，

步驟4.2：將步驟3制備的鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜放置在三維電動(dòng)位移臺(tái)上，

步驟4.3：通過(guò)三維電動(dòng)位移臺(tái)控制軟件控制鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜移動(dòng)到設(shè)定的起始位置，

步驟4.4：打開(kāi)并設(shè)置激光器，調(diào)整激光能量，

步驟4.5：激光器發(fā)出的激光被反射鏡反射，將光路引入光學(xué)顯微鏡，之后通過(guò)光學(xué)顯微鏡內(nèi)部的聚焦物鏡將激光聚焦在鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜的表面，

步驟4.6：通過(guò)三維電動(dòng)位移臺(tái)控制軟件控制三維電動(dòng)位移臺(tái)的移動(dòng)路徑和速度，使激光在鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜上刻蝕出預(yù)定的刻線(xiàn)；

所述三維電動(dòng)位移臺(tái)與所述光學(xué)顯微鏡集成于一體，光學(xué)顯微鏡內(nèi)部集成有所述聚焦物鏡和CCD相機(jī)，且所述三維電動(dòng)位移臺(tái)由計(jì)算機(jī)編程的三維電動(dòng)位移臺(tái)控制軟件控制。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法，其特征在于：步驟1中所述基片為石英玻璃片，步驟2中所述UV O₃清洗的清洗時(shí)間為15分鐘，步驟3中所述制膜設(shè)備為勻膠機(jī)，且勻膠機(jī)參數(shù)設(shè)置為轉(zhuǎn)速3000轉(zhuǎn)/分鐘，時(shí)間45秒。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法，其特征在于：步驟1.1中所述洗滌劑為丙酮溶液，步驟1.3中所述超聲清洗時(shí)間為30分鐘。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的提高鈣鈦礦量子點(diǎn)薄膜偏振度的方法，其特征在于：步驟4中所述激光器發(fā)出的激光為405nm連續(xù)激光，所述聚焦物鏡的倍率為×50，NA0.5，鈣鈦礦量子點(diǎn)為CsPbClBr₂。