[發明專利]顱頜面狀態的分析方法及裝置、電子設備

有效

• 申請號: 202010366381.0
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN111553907B
• 公開（公告）日: 2021-07-02
• 發明（設計）人: 姜喜玲;張麗敏
• 申請（專利權）人: 赤峰學院附屬醫院
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00
• 代理公司: 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240
• 代理人: 董文倩

1.一種顱頜面狀態的分析方法，其特征在于，包括：

獲取目標用戶的頭部顱頜面的目標序列圖像，其中，所述目標序列圖像的類型為軟組織序列圖像或黑骨頭序列圖像，所述目標序列圖像為磁共振圖像MRI；

將所述目標序列圖像合成計算機斷層掃描CT圖像，在將目標序列圖像合成計算機斷層掃描CT圖像之后，分析方法還包括：采用深度學習未配對數據方式將合成的CT圖像轉換回MRI圖像；通過預設圖像分析模型分析合成CT與實際CT圖像的差異；

利用所述目標序列圖像定位所述目標用戶的腦中線；

采用所述腦中線定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面；

基于所述正中矢狀平面，分析所述目標用戶的頭部顱頜面是否出現異常變形，

將所述目標序列圖像合成計算機斷層掃描CT圖像的步驟，包括：采用深度學習未配對數據方式將所述目標序列圖像轉換為頭部序列圖像；對頭部序列圖像進行自動編碼，得到CT圖像，

利用所述目標序列圖像定位所述目標用戶的腦中線的步驟，包括：提取所述目標用戶的頭部結構；基于所述頭部結構，定位所述目標用戶的頭部在虛擬解剖后的腦中線結構；確定腦中線與面中線的映射關系；基于所述腦中線結構和所述映射關系，確定至少一條腦中線；從所述至少一條腦中線中選取與面中線一致性最高的顱頜面腦中線，并將該顱頜面腦中線作為所述目標用戶的腦中線，

所述腦中線結構包括：大腦鐮、縱裂池，胼胝體，

采用所述腦中線定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面的步驟，包括：基于所述腦中線與面中線的映射關系，確定與所述顱頜面腦中線對應的顱頜面中線；基于所述顱頜面中線和面中線標識點定位所述正中矢狀平面,

在定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面時，還包括：接收外部終端輸入的調整信息、參數；自動定位腦中線與顱頜面中線上特定標志點的關系或者畸形用戶特定的特征；調整自動定位的腦中線，得到所述頭部顱頜面的正中矢狀平面。

2.根據權利要求1所述的分析方法，其特征在于，獲取目標用戶的頭部顱頜面的目標序列圖像的步驟，包括：

在檢測所述目標用戶的仰臥位滿足預設仰臥條件后，檢測所述目標用戶的頭部方向和頭部位置；

基于所述目標用戶的頭部方向和頭部位置，分析所述目標用戶的口腔張合狀態是否滿足預設張合狀態；

在確定所述目標用戶的口腔張合狀態滿足預設張合狀態的情況下，采用梯度回波序列對所述目標用戶的頭部進行MRI軟組織常規序列掃描，以得到頭部顱頜面的軟組織序列圖像；或者，

在確定所述目標用戶的口腔張合狀態滿足預設張合狀態的情況下，采用低翻轉角的目標參數對所述目標用戶的頭部進行MRI黑骨頭序列掃描，以得到頭部顱頜面的黑骨頭序列圖像。

3.根據權利要求1所述的分析方法，其特征在于，基于所述正中矢狀平面，分析所述目標用戶的頭部顱頜面是否出現異常變形的步驟，包括：

以所述正中矢狀平面為參照，在目標序列圖像中對顱頜面軟組織進行三維分析，得到所述頭部顱頜面的軟組織信息；

以所述正中矢狀平面為參照，在CT圖像中對顱頜面硬組織進行三維分析，得到所述頭部顱頜面的硬組織信息；

基于所述頭部顱頜面的軟組織信息和硬組織信息，分析所述目標用戶的頭部顱頜面是否出現異常變形。