[發(fā)明專利]顱頜面狀態(tài)的分析方法及裝置、電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010366370.2
• 申請(qǐng)日: 2020-04-30
• 公開（公告）號(hào): CN111513719B
• 公開（公告）日: 2021-08-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 姜喜玲;張麗敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 赤峰學(xué)院附屬醫(yī)院
• 主分類號(hào): A61B5/055
• 分類號(hào): A61B5/055;A61B5/107;A61B5/00
• 代理公司: 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240
• 代理人: 董文倩

本發(fā)明公開了一種顱頜面狀態(tài)的分析方法及裝置、電子設(shè)備。其中，該分析方法包括：獲取目標(biāo)用戶的頭部顱頜面的軟組織序列圖像與黑骨頭序列圖像，其中，軟組織序列圖像和黑骨頭序列圖像為磁共振圖像MRI；確定目標(biāo)用戶的腦中線，并采用腦中線定位頭部顱頜面的正中矢狀平面；基于正中矢狀平面，分析目標(biāo)用戶的頭部顱頜面是否出現(xiàn)異常變形。本發(fā)明解決了相關(guān)技術(shù)中由于顱骨的不規(guī)則性導(dǎo)致顱頜面的正中矢狀面的確定過程存在誤差大的缺陷，造成無法獲取全面的顱頜面狀態(tài)的技術(shù)問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及頭影分析技術(shù)領(lǐng)域，具體而言，涉及一種顱頜面狀態(tài)的分析方法及裝置、電子設(shè)備。

背景技術(shù)

相關(guān)技術(shù)中，在臨床影像方面，尤其是CBCT(Cone beam computed tomography,CBCT)的不斷普及，通過計(jì)算機(jī)終端很容易獲取反映用戶顱頜面信息的三維數(shù)據(jù)的技術(shù)不斷進(jìn)步，在立體頭影測量過程中，三維坐標(biāo)系和參考平面的建立至關(guān)重要。當(dāng)前的技術(shù)方案中，在確定顱頜面的正中矢狀面時(shí)，常使用3個(gè)位于顱頜面部中線上的解剖標(biāo)志點(diǎn)構(gòu)建正中矢狀面，即先構(gòu)建眶耳平面作為軸面(水平面)，再選擇兩個(gè)面部中線上的解剖標(biāo)志點(diǎn)做垂直于眶耳平面的正中矢狀面，但是這種方式存在很大的缺陷，即由于CBCT在軟組織顯示方面的缺陷，大部分顱頜面正中矢狀平面的定位都是在顱骨上完成的，由于顱骨是不規(guī)則形態(tài)的，用3個(gè)位于顱頜面部中線上的解剖標(biāo)志點(diǎn)構(gòu)建正中矢狀面存在誤差大，隨機(jī)性，另外在嚴(yán)重顱頜面畸形中這些標(biāo)志點(diǎn)的穩(wěn)定性差。

針對(duì)上述的問題，目前尚未提出有效的解決方案。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顱頜面狀態(tài)的分析方法及裝置、電子設(shè)備，以至少解決相關(guān)技術(shù)中由于顱骨的不規(guī)則性導(dǎo)致顱頜面的正中矢狀面的確定過程存在誤差大的缺陷，造成無法獲取全面的顱頜面狀態(tài)的技術(shù)問題。

根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的一個(gè)方面，提供了一種顱頜面狀態(tài)的分析方法，包括：獲取目標(biāo)用戶的頭部顱頜面的軟組織序列圖像與黑骨頭序列圖像，其中，所述軟組織序列圖像和黑骨頭序列圖像為磁共振圖像MRI；確定所述目標(biāo)用戶的腦中線，并采用所述腦中線定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面；基于所述正中矢狀平面，分析所述目標(biāo)用戶的頭部顱頜面是否出現(xiàn)異常變形。

可選地，獲取目標(biāo)用戶的頭部顱頜面的軟組織序列圖像與黑骨頭序列圖像的步驟，包括：在檢測所述目標(biāo)用戶的仰臥位滿足預(yù)設(shè)仰臥條件后，檢測所述目標(biāo)用戶的頭部朝向和頭部位置；基于所述目標(biāo)用戶的頭部朝向和頭部位置，分析所述目標(biāo)用戶的口腔張合狀態(tài)；對(duì)所述目標(biāo)用戶的頭部顱頜面進(jìn)行MRI軟組織序列和黑骨頭序列的雙序列掃描，以得到軟組織序列圖像與黑骨頭序列圖像。

可選地，確定所述目標(biāo)用戶的腦中線，并采用所述腦中線定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面的步驟，包括：提取所述目標(biāo)用戶的頭部結(jié)構(gòu)；基于所述頭部結(jié)構(gòu)，定位所述目標(biāo)用戶的頭部在虛擬解剖后的腦中線結(jié)構(gòu)；確定腦中線與面中線的映射關(guān)系；基于所述腦中線結(jié)構(gòu)和所述映射關(guān)系，定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面。

可選地，基于所述腦中線結(jié)構(gòu)和所述映射關(guān)系，定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面的步驟，包括：基于所述腦中線結(jié)構(gòu)和所述映射關(guān)系，確定至少一條腦中線；在軟組織序列圖像與黑骨頭序列圖像中定位與所述面中線一致性最高的顱頜面腦中線；確定與所述顱頜面腦中線對(duì)應(yīng)的顱頜面中線，并基于所述顱頜面中線和面中線標(biāo)識(shí)點(diǎn)定位所述正中矢狀平面。

可選地，采用所述腦中線定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面包括：接收外部設(shè)備輸入的腦中線結(jié)構(gòu)參數(shù)，其中，所述腦中線結(jié)構(gòu)參數(shù)包括：頭部垂體窩前部大腦鐮或者腦中線標(biāo)識(shí)點(diǎn)，所述腦中線標(biāo)識(shí)點(diǎn)為最大限度通過垂體窩前部大腦鐮及顱面部中線上的點(diǎn)；確定腦中線與面中線的映射關(guān)系；基于所述腦中線結(jié)構(gòu)參數(shù)和映射關(guān)系，確定所述目標(biāo)用戶的顱頜面矢狀平面。

可選地，在采用所述腦中線定位所述頭部顱頜面的正中矢狀平面之后，所述分析方法還包括：展示目標(biāo)用戶的顱頜面中線和面中線標(biāo)識(shí)點(diǎn)；接收外部設(shè)備輸入的腦中線調(diào)整信息；基于所述腦中線調(diào)整信息，調(diào)整所述目標(biāo)用戶的面中線以及顱頜面矢狀平面。