[發(fā)明專利]蒸鍍坩堝及蒸鍍裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010365271.2
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN111549318A
• 公開（公告）日: 2020-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黃永振
• 申請（專利權(quán)）人: 云谷（固安）科技有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/12;H01L51/56
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 劉葛

1.一種蒸鍍坩堝，其特征在于，包括：

坩堝本體，具有用于容納蒸鍍材料的容置腔，且所述坩堝本體開設(shè)有蒸鍍出口，所述蒸鍍出口與所述容置腔連通；

阻擋組件，可拆卸地安裝于容置腔內(nèi)，所述阻擋組件包括沿所述容置腔的軸向方向間隔設(shè)置的至少一個第一阻擋片及至少一個第二阻擋片；

所述第一阻擋片設(shè)有第一流通部，所述第二阻擋片沿所述容置腔的軸向方向在所述第一阻擋片的正投影覆蓋所述第一流通部；

所述第二阻擋片與所述容置腔的內(nèi)壁之間具有間隙。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述至少一個第一阻擋片及所述至少一個第二阻擋片沿所述容置腔的軸向方向交替間隔設(shè)置。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第一阻擋片的周向側(cè)壁與所述容置腔的內(nèi)壁相接觸。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第一阻擋片還包括圍繞所述第一流通部的第一阻擋部；

最遠(yuǎn)離所述蒸鍍出口的所述第一阻擋部沿所述容置腔的軸向方向朝向所述蒸鍍出口傾斜延伸，并與所述第一流通部相連；和/或，

最靠近所述蒸鍍出口所述第一阻擋部沿所述容置腔的軸向方向背離所述蒸鍍出口傾斜延伸，并與所述第一流通部相連。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第一流通部包括至少一個第一通孔；

優(yōu)選地，所述第一流通部包括多個第一通孔，所述多個第一通孔呈陣列排布。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋組件還包括網(wǎng)格件，所述網(wǎng)格件設(shè)置于至少一個所述第一通孔內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第二阻擋片具有朝向所述蒸鍍出口的凹部。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或7所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述第二阻擋片朝向所述蒸鍍出口的一側(cè)表面設(shè)有所述凹部；或者所述第二阻擋片沿遠(yuǎn)離所述蒸鍍出口的方向凹陷形成所述凹部。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍坩堝，其特征在于，所述阻擋組件還包括懸掛件，所述至少一個第一阻擋片及所述至少一個第二阻擋片固定于所述懸掛件，所述懸掛件可懸掛于所述坩堝本體的所述蒸鍍出口處。

10.一種蒸鍍裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1～9所述的蒸鍍坩堝。