[發(fā)明專利]利用磁控、光控單輸入多輸出的可控軟體閥及其控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010363429.2
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN111536273B
• 公開（公告）日: 2021-05-04
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊揚(yáng);趙潤禾;楊毅;邵文韞;鐘宋義;彭艷;蒲華燕
• 申請（專利權(quán)）人: 上海大學(xué)
• 主分類號: F16K11/14
• 分類號: F16K11/14;F16K31/06
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 杜陽陽

1.一種利用磁控、光控單輸入多輸出的可控軟體閥，其特征在于，包括硅膠管和多個相同的軟體閥；其中，多個所述軟體閥并排設(shè)置且共同連接在所述硅膠管上，所述軟體閥的閥門片為磁性SMP薄膜；

通過磁場和光場對所述磁性SMP薄膜進(jìn)行控制使所述磁性SMP薄膜發(fā)生形變，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)不同所述軟體閥的開關(guān)狀態(tài)的切換；

每個所述軟體閥均包括下襯底、磁性SMP薄膜、防護(hù)口、上擋板、上腔室和下腔室；其中，對所述下襯底的上表面進(jìn)行凹陷處理形成半弧形的所述下腔室，且在所述下腔室的外表面設(shè)置有所述磁性SMP薄膜；所述磁性SMP薄膜上開設(shè)有所述防護(hù)口；所述下襯底上設(shè)有與所述下襯底匹配的框架結(jié)構(gòu)，并在所述框架結(jié)構(gòu)的上表面處安裝有所述上擋板以形成所述上腔室；

所述框架結(jié)構(gòu)為鏤空結(jié)構(gòu)，并在所述框架結(jié)構(gòu)的一側(cè)面處設(shè)有進(jìn)氣口，在所述框架結(jié)構(gòu)的所述進(jìn)氣口相對的側(cè)面處設(shè)有出氣口；其中，所述硅膠管的出氣口與所述軟體閥的進(jìn)氣口連接；

所述軟體閥上方還設(shè)置有磁場發(fā)生裝置和光源發(fā)生裝置；所述磁性SMP薄膜具有向上彎曲形態(tài)和向下彎曲形態(tài)；

具體控制方式：

當(dāng)氣流從所述硅膠管進(jìn)入所述軟體閥的進(jìn)氣口且所述軟體閥處于開啟狀態(tài)時，所述磁性SMP薄膜向下彎曲，氣流直接從所述上腔室經(jīng)過到達(dá)所述軟體閥的出氣口；

當(dāng)所述軟體閥上方外加的磁場發(fā)生裝置和光源發(fā)生裝置開啟時，所述磁性SMP薄膜受力向上彎曲并與所述上擋板相擠壓，氣流從所述進(jìn)氣口進(jìn)入，被所述磁性SMP薄膜阻擋流通，從所述防護(hù)口進(jìn)入所述下腔室，并維持所述磁性SMP薄膜狀態(tài)，使所述軟體閥處于閉合狀態(tài)；此時關(guān)閉所述磁場發(fā)生裝置與所述光源發(fā)生裝置；

當(dāng)所述磁場發(fā)生裝置關(guān)閉且所述光源發(fā)生裝置開啟時，所述磁性SMP薄膜恢復(fù)并向下彎曲，使所述軟體閥被再次開啟。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用磁控、光控單輸入多輸出的可控軟體閥，其特征在于，相鄰所述軟體閥之間設(shè)有空隙。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用磁控、光控單輸入多輸出的可控軟體閥，其特征在于，所述上擋板為中部有凹陷區(qū)域的上擋板；其中，所述凹陷區(qū)域的形狀為V字形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用磁控、光控單輸入多輸出的可控軟體閥，其特征在于，所述下襯底、所述上擋板和所述框架結(jié)構(gòu)的材料均為彈性硅膠。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用磁控、光控單輸入多輸出的可控軟體閥，其特征在于，所述磁性SMP薄膜是通過溶劑澆鑄的熱塑聚氨酯聚合物。