[發明專利]基板及其制備方法在審
| 申請號： | 202010354200.2 | 申請日： | 2020-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN111427189A | 公開（公告）日： | 2020-07-17 |
| 發明（設計）人： | 陳俊;袁濤;巴靜 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1335 | 分類號： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 張曉薇 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市東湖新技術*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 制備 方法 | ||
1.一種基板，其特征在于，包括襯底基板，所述襯底基板上設置有至少一微盲孔。
2.根據權利要求1所述的基板，其特征在于，所述微盲孔形狀為凹球形。
3.根據權利要求2所述的基板，其特征在于，所述微盲孔的直徑范圍為0.1um至10um。
4.根據權利要求1所述的基板，其特征在于，所述至少一微盲孔陣列設置于所述襯底基板上。
5.根據權利要求1所述的基板，其特征在于，所述襯底基板為玻璃襯底基板或有機襯底基板，所述有機襯底基板表面沉積有SiNx、SiOx和SiNxOy中的任一種。
6.一種基板的制備方法，其特征在于，所述方法包括：
準備襯底基板；
在所述襯底基板上制備至少一微盲孔，得到基板，其中，所述基板為如權利要求1至5任一項所述的基板。
7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述在所述襯底基板上制備至少一微盲孔，包括：
在所述襯底基板上制備第一光阻層，其中，所述第一光阻層上形成有多個陣列排布的通孔；
對所述襯底基板和所述第一光阻層進行刻蝕。
8.根據權利要求7所述的制備方法，其特征在于，所述在所述襯底基板上制備第一光阻層，包括：
在所述襯底基板上涂布第二光阻層；
對所述第二光阻層進行曝光顯影，得到所述第一光阻層。
9.根據權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述對所述第二光阻層進行曝光顯影，包括：
準備預設圖案的光罩；
采用所述光罩，對所述第二光阻層進行曝光顯影。
10.根據權利要求9所述的制備方法，其特征在于，所述準備預設圖案的光罩，包括：
準備具有陣列排布通孔的光罩。
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