[發明專利]一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置在審
| 申請號: | 202010345781.3 | 申請日: | 2020-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN111599714A | 公開(公告)日: | 2020-08-28 |
| 發明(設計)人: | 顧駿 | 申請(專利權)人: | 顧駿 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 合肥市科融知識產權代理事務所(普通合伙) 34126 | 代理人: | 陳飛 |
| 地址: | 241200 安徽省*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 再生 半導體 生產 冷卻 裝置 | ||
1.一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,包括冷卻箱(13),其特征在于,所述冷卻箱(13)的內壁通過螺釘固定有圓柱體結構的透氣槽(11),且透氣槽(11)底部內壁的中間設置有固定塊(18),所述透氣槽(11)的底部內壁通過螺釘固定有等距離環形分布的隔板(17),且透氣槽(11)包括第一冷卻腔、第二冷卻腔和第三冷卻腔,所述第一冷卻腔、第二冷卻腔和第三冷卻腔的底部內壁均開設有等距離分布的透氣孔(3),且第一冷卻腔、第二冷卻腔和第三冷卻腔內透氣孔(3)的數量依次增加,所述透氣孔(3)的截面為梯形結構,所述固定塊(18)的頂部外壁開設有凹槽,且凹槽的內壁設置有電動機(12),所述電動機(12)的輸出軸通過聯軸器連接有轉板(1),且轉板(1)的頂部外壁設置有等距離環形分布的固定槽(19),所述固定槽(19)頂部外壁的一側鉸接有弧形蓋(23),且弧形蓋(23)的外壁開設有出氣孔(24)。
2.根據權利要求1所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述固定槽(19)的底部內壁設置有透氣網(20),且固定槽(19)的四周內壁均設置有橡膠凸起(21)。
3.根據權利要求1所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述冷卻箱(13)的頂部外壁通過螺釘固定有風機(15),且風機(15)的輸入端與冷卻箱(13)相連通,風機(15)的輸出端套接有排氣斗(14)。
4.根據權利要求1所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述冷卻箱(13)的一側外壁開設有通口,且通口的內壁通過鉸鏈連接有密封蓋(16)。
5.根據權利要求1所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述透氣槽(11)頂部外壁的邊緣處開設有環形結構的滑槽,且滑槽的內壁滑動連接有滾珠(2),滾珠(2)的頂端與轉板(1)的底部外壁形成滑動配合。
6.根據權利要求1所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述透氣槽(11)的底部外壁通過螺釘固定有第一導流塊(4),且第一導流塊(4)為圓錐型結構。
7.根據權利要求1所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述冷卻箱(13)的底端套接有進風盤(6),且進風盤(6)的四周外壁開設有四至六個等距離環形分布的進風口,進風口的內壁設置有支架(7),支架(7)的外壁通過螺釘固定有馬達(9),馬達(9)的輸出軸通過聯軸器連接有扇葉(8)。
8.根據權利要求7所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述進風盤(6)底部內壁的中部設置有第二導流塊(5),且第二導流塊(5)為圓錐型結構。
9.根據權利要求7或8所述的一種再生晶圓半導體生產用冷卻裝置,其特征在于,所述進風盤(6)的頂部外壁和底部外壁均開設有等距離環形分布的安裝孔,且安裝孔的內壁插接有半導體制冷片(10),半導體制冷片(10)的制冷端位于進風盤(6)內。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





