[發明專利]一種微流控芯片及其制備方法有效
| 申請號: | 202010345010.4 | 申請日: | 2020-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN111514949B | 公開(公告)日: | 2020-12-01 |
| 發明(設計)人: | 王云兵;李高參;馬博軒;楊立;鄒耀中;蘇云鵬;江鵬 | 申請(專利權)人: | 四川大學;成都今是科技有限公司 |
| 主分類號: | B01L3/00 | 分類號: | B01L3/00 |
| 代理公司: | 成都正華專利代理事務所(普通合伙) 51229 | 代理人: | 郭艷艷 |
| 地址: | 610064 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 微流控 芯片 及其 制備 方法 | ||
1.一種微流控芯片,其特征在于:包括經過疏水改性的芯片基底,所述芯片基底上覆有磷脂膜,所述磷脂膜上鑲嵌有經過核苷酸修飾物修飾后的跨膜蛋白;所述跨膜蛋白為α-HL、Msp A或phi29;所述核苷酸修飾物為親水聚合物和核苷酸的復合物,所述復合物中親水聚合物和核苷酸通過共價鍵連接。
2.根據權利要求1所述的微流控芯片,其特征在于:所述親水聚合物為聚賴氨酸、聚谷氨酸或聚乙二醇;所述核苷酸為腺嘌呤核苷酸、胸腺嘧啶核苷酸、胞嘧啶核苷酸或鳥嘌呤核苷酸。
3.如權利要求1~2任一項所述的微流控芯片的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:對芯片基底進行疏水改性;
S2:在疏水改性后的芯片基底上形成磷脂膜;
S3:采用核苷酸修飾物對跨膜蛋白進行修飾改性;
S4:將改性后的跨膜蛋白嵌裝到磷脂膜上,完成微流控芯片的制備。
4.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,芯片基底疏水改性包括以下步驟:
SS1:用Su-8對基片表面進行預處理;
SS2:在預處理后的基片上進行環氧開環;
SS3:將全氟化物接枝到環氧開環后的基片上,得疏水改性芯片基底;
所述基片材料為聚苯乙烯或聚碳酸酯。
5.根據權利要求4所述的制備方法,其特征在于:所述全氟化物為全氟癸基乙烯、全氟十一烷酸、十七氟十一酰氯、全氟十二烷氨、全氟癸基三甲氧基硅烷和全氟癸基二甲基氯硅烷中的至少一種。
6.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于,S2中磷脂膜的形成包括以下步驟:
SS1:將磷脂分子、疏水單體和光引發劑按1:0.5~3:0.5~3的摩爾比混合,得穩定化的兩性磷脂分子;
SS2:將穩定化的兩性磷脂分子溶于電解質溶液中,得兩性磷脂分子溶液;
SS3:將疏水改性后的芯片基底在兩性磷脂分子溶液中浸潤,然后紫外輻照10~60min,即得。
7.根據權利要求6所述的制備方法,其特征在于:所述穩定化的兩性磷脂分子中磷脂分子、疏水單體和光引發劑的摩爾比為1:1:1。
8.采用權利要求6或7所述的制備方法,其特征在于:所述磷脂分子為二植烷?;字D憠A和/或二植烷酰基磷脂酰乙醇胺;所述疏水單體為甲基丙烯酸正丁酯和/或二甲基丙烯酸乙二醇酯;所述光引發劑為2,2-二乙氧基-1-苯己酮和/或2-羥基-2-甲基-1-苯基丙酮。
9.根據權利要求3所述的制備方法,其特征在于:改性后的跨膜蛋白通過自組裝的方式嵌裝到磷脂膜上。
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