[發(fā)明專利]一種輻照條件下介質(zhì)材料微波介電性能測(cè)試方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010335055.3
• 申請(qǐng)日: 2020-04-24
• 公開（公告）號(hào): CN111505387A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 向鋒;李建壯;熊剛;張波;郭永釗;董亦鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 西安交通大學(xué)
• 主分類號(hào): G01R27/26
• 分類號(hào): G01R27/26
• 代理公司: 西安通大專利代理有限責(zé)任公司 61200
• 代理人: 王艾華

1.一種輻照條件下介質(zhì)材料微波介電性能測(cè)試方法，其特征在于，包括以下步驟：

步驟1：研發(fā)準(zhǔn)光腔結(jié)構(gòu)尺寸，實(shí)現(xiàn)腔體結(jié)構(gòu)尺寸更適合用于輻照條件下的實(shí)時(shí)測(cè)試，凹面鏡曲率半徑為300，凹面鏡半徑為165mm，平面鏡半徑為130mm，腔體高150mm；

步驟2：采用輻照源自動(dòng)化發(fā)射裝置，通過(guò)控制不同電子槍加速電壓(30kv～150kv)的大小，來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)樣品不同劑量及強(qiáng)度的輻照；

步驟3：利用labview編寫測(cè)試系統(tǒng)控制軟件，實(shí)現(xiàn)對(duì)輻射源輻射量的控制以及對(duì)整個(gè)系統(tǒng)進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)試的控制，通過(guò)系統(tǒng)操作界面輸入掃描參數(shù)和電子槍控制電壓大小，即可進(jìn)行介質(zhì)材料的微波介電性能測(cè)試；

步驟4：實(shí)現(xiàn)軟件和硬件的結(jié)合，并利用標(biāo)準(zhǔn)樣品聚四氟乙烯和藍(lán)寶石對(duì)系統(tǒng)進(jìn)行校準(zhǔn)，搭建完整可用的微波介電性能測(cè)試系統(tǒng)；

步驟5：?jiǎn)?dòng)真空裝置，保持輻射源處于關(guān)閉狀態(tài)，利用研發(fā)的測(cè)試系統(tǒng)控制軟件進(jìn)行空腔測(cè)試，記錄S參數(shù)、諧振頻率f、和品質(zhì)因數(shù)Q；

步驟6：保持輻射源處于關(guān)閉狀態(tài)，把樣品放入準(zhǔn)光腔的平面鏡上，啟動(dòng)真空裝置，利用研發(fā)的測(cè)試系統(tǒng)控制軟件進(jìn)行樣品的微波介電性能測(cè)試，根據(jù)品質(zhì)因數(shù)Q和S參數(shù)的變化，計(jì)算樣品的介電常數(shù)ε₁和記錄諧振頻率f₁、品質(zhì)因數(shù)Q₁；

步驟7：保持樣品處于原來(lái)的位置，開啟輻射源設(shè)備，利用研發(fā)的測(cè)試系統(tǒng)控制軟件進(jìn)行樣品的微波介電性能測(cè)試，根據(jù)品質(zhì)因數(shù)Q和S參數(shù)的變化，計(jì)算樣品的介電常數(shù)ε₂和記錄諧振頻率f₂、品質(zhì)因數(shù)Q₂；

步驟8：重復(fù)步驟6，7，利用測(cè)試系統(tǒng)控制軟件控制輻射源的輻射強(qiáng)度及輻照劑量，根據(jù)微波介電性能測(cè)試系統(tǒng)得出的結(jié)果分析樣品在輻射粒子不同強(qiáng)度或劑量作用下的微波介電性能。