[發明專利]一種細胞培養實驗裝置

在審

• 申請號: 202010326833.2
• 申請日: 2020-04-23
• 公開（公告）號: CN111394248A
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 牛林;仝相瑤;張輝;鄒蕊;王譯婕;徐峰;楊清振
• 申請（專利權）人: 西安交通大學口腔醫院
• 主分類號: C12M3/00
• 分類號: C12M3/00;C12M1/12;C12M1/00
• 代理公司: 北京方圓嘉禾知識產權代理有限公司 11385
• 代理人: 王海燕

本發明公開了一種細胞培養實驗裝置，涉及生物醫藥研究技術領域，包括上層腔體、上層支架、細胞培養膜、下層支架與下層腔體自上而下依次固定連接；細胞培養膜表面培養有細胞，細胞培養膜上密布有細胞突通孔，細胞突能夠穿過細胞突通孔，使得細胞本體與細胞突分別位于細胞培養膜上下兩側，上層腔體與下層腔體內部用于流通細胞培養液，上層支架與下層支架分別設置有上鏤空區域與下鏤空區域，上層支架與下層支架之間夾持有細胞培養膜，上層腔體內的細胞培養液能夠流過上層支架的上鏤空區域內露出的細胞培養膜上表面，下層腔體內的細胞培養液能夠流過下層支架的下鏤空區域內露出的細胞培養膜下表面；本發明能夠實現對細胞局部施加外界刺激。

技術領域

本發明涉及生物醫藥研究技術領域，特別是涉及一種細胞培養實驗裝置。

背景技術

牙本質敏感癥是一種以發作迅速、時間短暫、疼痛尖銳為特點的臨床常見疾病，長期的敏感刺激會引起牙髓炎癥、壞死等更嚴重的并發癥。近年來，牙本質敏感的發生率仍呈現明顯上升趨勢，已嚴重影響人們的生活質量，逐漸成為危害我國成人口腔健康的主要疾病之一；目前已從理論上證實了外界刺激下牙本質小管的變形導致小管液快速流動產生的流體剪切力誘發的細胞應激反應是過敏癥狀產生及修復的主要誘因；但是目前無法知道流體剪切力是通過影響細胞突還是影響細胞本體來達到影響細胞反應的，也無法知道藥物對牙本質細胞的影響機制到底是通過作用在細胞突來實現還是通過作用于細胞本體來實現；究其原因，當前研究多以二維平層細胞為研究對象，在構建成牙本質細胞在體外生長模型方面存在明顯技術缺陷，無法實現細胞本體與細胞突的分層培養，從而無法通過單獨對細胞本體或是細胞突施加外界刺激然后觀察細胞反應來實現對細胞局部施加外界刺激。

發明內容

本發明的目的是提供一種細胞培養實驗裝置，以解決上述現有技術存在的問題，能夠實現對細胞局部施加外界刺激。

為實現上述目的，本發明提供了如下方案：

本發明提供一種細胞培養實驗裝置，包括上層腔體、上層支架、細胞培養膜、下層支架與下層腔體自上而下依次固定連接；所述細胞培養膜表面培養有細胞，所述細胞培養膜上密布有細胞突通孔，細胞突能夠穿過所述細胞突通孔，使得細胞本體與細胞突分別位于所述細胞培養膜上下兩側，所述上層腔體與所述下層腔體內部用于流通細胞培養液，所述上層支架與所述下層支架分別設置有上鏤空區域與下鏤空區域，所述上層支架與所述下層支架之間夾持有細胞培養膜，所述上層腔體內的細胞培養液能夠流過所述上層支架的上鏤空區域內露出的細胞培養膜上表面，所述下層腔體內的細胞培養液能夠流過所述下層支架的下鏤空區域內露出的細胞培養膜下表面。

優選地，所述上層腔體上表面設置有上層進液口與上層出液口，所述上層進液口與所述上層出液口都與所述上層腔體連通。

優選地，所述上層腔體內底部設置有上層間隙進液口與上層間隙出液口，所述上層間隙進液口與所述上層間隙出液口都與所述上層支架的上鏤空區域相連通。

優選地，所述下層腔體下表面設置有下層進液口與下層出液口，所述下層進液口與所述下層出液口都與所述下層腔體連通。

優選地，所述下層腔體上表面貫通設置有下層間隙進液口與下層間隙出液口，所述下層間隙進液口與所述下層間隙出液口都與所述下層支架的下鏤空區域相連通。

優選地，所述上層腔體、所述上層支架、所述下層支架與所述下層腔體上分別設置有第一裝配孔、第二裝配孔、第三裝配孔與第四裝配孔，通過連接件與所述第一裝配孔、所述第二裝配孔、所述第三裝配孔與所述第四裝配孔之間的配合能夠實現所述上層腔體、所述上層支架、所述下層支架之間的固定連接。

優選地，所述細胞培養膜為聚對苯二甲酸乙二醇酯膜、硝酸-乙酸混合纖維濾膜或透明聚碳酸脂膜。