[發明專利]一種化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置

在審

• 申請號: 202010322299.8
• 申請日: 2020-04-22
• 公開（公告）號: CN111321392A
• 公開（公告）日: 2020-06-23
• 發明（設計）人: 李培元;楊睿欣;杜淑娣;薛亮
• 申請（專利權）人: 西安航空制動科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/26
• 代理公司: 中國航空專利中心 11008
• 代理人: 王世磊

本發明實施例公開了一種化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置。氣體攪動裝置包括：混氣罐，設置于該混氣罐內部的攪動組件；其中，混氣罐的一端面設置有進氣孔，另一端面與化學氣相沉積(CVD)爐體連通；攪動組件包括軸體和沿軸體的周向均勻設置的至少三個葉片，軸體的兩端一一對應的固設于混氣罐的兩端，且葉片與軸體的垂直面具有預設夾角。本發明實施例解決了現有制造碳剎車盤的工藝中，由于通入CVD爐的碳源氣體難以快速混合均勻，而導致CVD爐中的碳源氣體不能充分反應，從而造成反應速率下降，以及原料氣體反應不充分而造成浪費的問題。

技術領域

本申請涉及但不限于剎車盤制造技術領域，尤指一種化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置。

背景技術

碳剎車盤的制造工藝是將碳纖維預制體疊放在化學氣相沉積(Chemical VaporDeposition，簡稱為：CVD)爐內，加熱至所要求的溫度，并在CVD爐內通入不同種類的碳源氣體或惰性氣體混合物，例如為碳氫化合物、氮氣等，碳源氣體被加熱至一定溫度裂解、擴散至多孔的預制體內，部分熱解碳沉積在碳纖維周圍和空隙中使預制體致密，密度達到要求后，最終形成碳剎車盤。

由于進行CVD工藝的碳源氣體可能為混合氣體，且不同分子量的碳源氣體的密度不同，若上述密度不同的混合氣體通入CVD爐時均勻性較差，則會導致碳源氣體進CVD爐后不能充分反應，使反應速率下降，并且使得原料氣體反應不充分而造成浪費。

發明內容

為了解決上述技術問題，本發明實施例提供了一種化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置，以解決現有制造碳剎車盤的工藝中，由于通入CVD爐的碳源氣體難以快速混合均勻，而導致CVD爐中的碳源氣體不能充分反應，從而造成反應速率下降，以及原料氣體反應不充分而造成浪費的問題。

本發明實施例提供一種化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置，包括：混氣罐，設置于所述混氣罐內部的攪動組件；

所述混氣罐的一端面設置有進氣孔，另一端面與化學氣相沉積CVD爐體連通；

所述攪動組件包括軸體和沿所述軸體的周向均勻設置的至少三個葉片，所述軸體的兩端一一對應的固設于所述混氣罐的兩端，且所述葉片與所述軸體的垂直面具有預設夾角；所述軸體固定于所述混氣罐的兩端，且所述軸體的方向與所述混氣罐的進氣方向一致；

所述攪動組件，被配置為所述葉片在氣流的作用下，沿所述軸體進行軸向旋轉。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述葉片組件包括四個葉片。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述葉片與所述軸體的垂直面的夾角在30度到60度之間。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述葉片為梯形葉片，所述梯形葉片設置于穿過所述軸體的圓環上，所述圓環的直徑為所述混氣罐直徑的五分之一。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述梯形葉片的短邊與所述圓環相連接，且所述四個葉片的短邊相加等于所述圓環的周長，所述梯形葉片的長邊為所述短邊的兩倍。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述葉片的材料采用塑料、樹脂或PVC。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述軸體設置于所述混氣罐的中心軸位置。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述混氣罐的兩個端面分別設置有直徑與所述軸體直徑相同的凹槽，所述兩個凹槽用于一一對應的插入所述軸體的兩端。

可選地，如上所述的化學氣相沉積爐的氣體攪動裝置中，所述攪動組件的直徑為所述混氣罐直徑的二分之一到三分之二。