[發明專利]特種工件鍍膜控制系統

有效

• 申請號: 202010321985.3
• 申請日: 2020-04-22
• 公開（公告）號: CN111621763B
• 公開（公告）日: 2022-06-17
• 發明（設計）人: 李星;鐘玉盛;姜翠寧
• 申請（專利權）人: 廣東生波爾光電技術有限公司
• 主分類號: C23C14/54
• 分類號: C23C14/54;C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 中山市捷凱專利商標代理事務所(特殊普通合伙) 44327
• 代理人: 石仁

1.一種特種工件鍍膜控制系統，其特征在于，至少包括：

主控制單元；

90°翻轉輸送驅動單元，與主控制單元電連接，用于在主控制單元的控制下，驅動90°翻轉裝置對工件進行90°翻轉，使清洗后工件從豎直狀態翻轉至水平的正面狀態，并輸送至緩沖傳送工位；

自動抓取移載驅動單元，與主控制單元電連接，用于在主控制單元的控制下，驅動自動抓取移載裝置移動至緩沖傳送工位抓取工件，并移載至180°翻轉裝置；或者驅動自動抓取移載裝置移動至組合工位抓取工件，并移載至180°翻轉裝置；

180°翻轉驅動單元，與主控制單元電連接，用于在主控制單元的控制下，驅動180°翻轉裝置對移載至其上的工件進行第一次180°翻面，使工件以反面狀態進入下一工序；或者驅動180°翻轉裝置對移載至其上的工件進行第二次180°翻面，使工件以正面狀態進入下一工序；

自動控制系統，與主控制單元電連接，用于在主控制單元的控制下，控制四工位平移升降裝置；

真空鍍膜控制系統，與主控制單元電連接，用于在主控制單元的控制下，控制真空鍍膜設備對工件進行鍍膜；

四工位平移升降裝置，設于下平臺上，可沿下平臺前后移動，其具有兩前后分布的上層傳動平臺、以及兩前后分布的下層傳動平臺，各傳動平臺可正向、或反向傳動，且下層傳動平臺可上下升降；

該四工位平移升降裝置具有第一反向接料狀態；在第一反向接料狀態，四工位平移升降裝置沿下平臺向前移動至與真空鍍膜設備相對的位置，上層傳動平臺先后反向傳動，以反向接收從真空鍍膜設備的工藝室先后反向輸出的放置于基片架上的兩待靜放工件；下層傳動平臺向上升起后先后反向傳動，以反向接收從真空鍍膜設備的靜放室先后反向輸出的放置于第二基片架上的兩待翻轉工件；

該四工位平移升降裝置還具有第一正向送料狀態；在第一正向送料狀態，四工位平移升降裝置與真空鍍膜設備相對，下層傳動平臺向下復位，上層傳動平臺先后正向傳動，以將接收的兩待靜放工件及其基片架先后正向輸出至真空鍍膜設備的靜放室進行反靜放、或正靜放；

該四工位平移升降裝置還具有第一接空車狀態；在第一接空車狀態，四工位平移升降裝置遠離真空鍍膜設備并向后移動至基片架存儲工位，其上層傳動平臺正向傳動，以接收從基片架存儲工位輸送的兩第一基片架；

該四工位平移升降裝置還具有第一換車狀態；在第一換車狀態，四工位平移升降裝置沿下平臺向前移動至與組合工位相對的位置，下層傳動平臺向上升起后先后反向傳動，以將放置于第二基片架上的兩待翻轉工件先后輸出至組合工位；在自動抓取移載裝置將組合工位的待翻轉工件抓取至180°翻轉裝置進行翻面后，四工位平移升降裝置下層傳動平臺正向傳動，以接收從組合工位正向輸出的第二基片架；下層傳動平臺向下復位后，上層傳動平臺反向傳動，以將其接收的第一基片架反向輸出至組合工位。