[發(fā)明專利]光學(xué)指紋識(shí)別裝置及具有屏下光學(xué)指紋識(shí)別的電子設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010320621.3
• 申請(qǐng)日: 2020-04-22
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111523448B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-04-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 郝志
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海思立微電子科技有限公司
• 主分類號(hào): G06V40/13
• 分類號(hào): G06V40/13
• 代理公司: 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 陳偉;陳燁

1.一種光學(xué)指紋識(shí)別裝置，設(shè)于指紋識(shí)別區(qū)下方；其特征在于，包括：

微透鏡陣列，包括若干微透鏡，用于匯聚從所述指紋識(shí)別區(qū)向所述微透鏡陣列反射回來(lái)攜帶有指紋信息的光信號(hào)；

第一開(kāi)孔層，設(shè)于所述微透鏡陣列下方，包含與若干微透鏡一一對(duì)應(yīng)的第一開(kāi)孔，所述微透鏡的焦點(diǎn)落在與之對(duì)應(yīng)的第一開(kāi)孔內(nèi)或附近；

光篩層，設(shè)于所述第一開(kāi)孔層下方，包括若干光篩單元；所述光篩單元對(duì)應(yīng)一個(gè)微透鏡設(shè)有至少兩個(gè)用于供目標(biāo)角度的光信號(hào)通過(guò)的篩光孔；

光檢測(cè)陣列，設(shè)有感光區(qū)域；所述感光區(qū)域包括與若干光篩單元一一對(duì)應(yīng)的光電轉(zhuǎn)換器件，用于將被所述微透鏡陣列匯聚后先后經(jīng)過(guò)所述第一開(kāi)孔層以及所述光篩層并抵達(dá)其上的光信號(hào)轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。

2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述光篩層被配置為使所述篩光孔位于所述微透鏡焦點(diǎn)以下一倍焦距以內(nèi)的范圍任意位置。

3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述篩光孔的高徑比大于等于1；所述高徑比為所述篩光孔的深度與其孔徑最大尺寸的比值。

4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，還包括：濾光層，設(shè)于所述光檢測(cè)陣列表面，用于濾除非目標(biāo)波段光信號(hào)。

5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述光篩層設(shè)于所述光檢測(cè)陣列的感光區(qū)域中。

6.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述光篩層設(shè)于所述感光區(qū)域的若干層金屬層中的任意一層上。

7.如權(quán)利要求6所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述光篩層設(shè)于所述感光區(qū)域的底層金屬層。

8.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述第一開(kāi)孔層設(shè)于所述感光區(qū)域的若干層金屬層中。

9.如權(quán)利要求5所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述第一開(kāi)孔層位于所述光檢測(cè)陣列的外部。

10.如權(quán)利要求9所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述第一開(kāi)孔層形成于所述光檢測(cè)陣列的表面，所述第一開(kāi)孔層上形成有第一介質(zhì)層，所述微透鏡陣列形成于所述第一介質(zhì)層上。

11.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述光篩層設(shè)于所述光檢測(cè)陣列的感光區(qū)域外部。

12.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述光篩層采用金屬材料制作，形成在所述光檢測(cè)陣列的上方。

13.如權(quán)利要求11所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，還包括：第二介質(zhì)層，設(shè)于所述光篩層與所述第一開(kāi)孔層之間，所述第一開(kāi)孔層形成于所述第二介質(zhì)層上。

14.如權(quán)利要求9或11所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述第一開(kāi)孔層和所述微透鏡陣列集成于一體設(shè)置貼附于所述感光區(qū)域外。

15.如權(quán)利要求14所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，還包括：預(yù)設(shè)厚度的承載膜，所述微透鏡陣列和所述第一開(kāi)孔層分別設(shè)于所述承載膜的上下兩側(cè)。

16.如權(quán)利要求15所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，還包括：第二開(kāi)孔層，位于所述微透鏡陣列與所述承載膜之間或者所述承載膜內(nèi)。

17.如權(quán)利要求1至13任一所述的光學(xué)指紋識(shí)別裝置，其特征在于，還包括：第二開(kāi)孔層，設(shè)于所述第一開(kāi)孔層與所述微透鏡陣列之間，所述第二開(kāi)孔層的第二開(kāi)孔與所述第一開(kāi)孔層的第一開(kāi)孔一一對(duì)應(yīng)。