[發明專利]一種低氧恒濕儲藏裝置及其儲藏方法

有效

• 申請號: 202010318474.6
• 申請日: 2020-04-21
• 公開（公告）號: CN111419021B
• 公開（公告）日: 2023-05-16
• 發明（設計）人: 請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 天津森羅科技股份有限公司
• 主分類號: A47B81/00
• 分類號: A47B81/00;A47B63/00;A47B97/00;B01D53/26
• 代理公司: 北京威禾知識產權代理有限公司 11838
• 代理人: 沈超

1.一種低氧恒濕儲藏裝置，包括：

氣密圍護，其中所述氣密圍護的體積小于20m³；

除氧劑；其經配置以調整和維持所述氣密圍護內的氧含量；以及

控濕劑和/或干燥劑，其經配置以調整和維持所述氣密圍護內濕度；

其中，所述除氧劑和控濕劑和/或干燥劑的用量至少部分基于所述氣密圍護的體積和密封性；

所述除氧劑的用量根據以下公式計算：

M₁＝A₁·A₂·V·(C₁-C₂)/Q+V·N·D·21％/Q；

所述控濕劑和/或干燥劑的用量根據以下公式計算：

M₂＝P₁M₁/P+A₃·K·V(R_lim-R₂)·S/P；

其中，M₁為除氧劑用量；A₁為氣密圍護結構影響系數；A₂為儲藏物品系數；V為氣調空間的容積；C₁為氣調空間內起始氧含量；C₂為氣調空間內需求氧含量；Q為除氧劑吸氧量；N為氣密圍護結構的換氣率；D為需要低氧儲藏的時間；M₂為控濕劑和/或干燥劑用量；P₁為除氧劑的放濕量；P為控濕劑和/或干燥劑的吸水率；A₃為標準密封狀態下單位容積內控濕劑和/或干燥劑的用量參考值；K為濕度參數；R_lim為極限相對濕度；R₂為目標相對濕度；S為同溫度下的飽和濕度。

2.如權利要求1所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述氣密圍護的體積為小于10m³，小于5m³，或者小于3m³。

3.如權利要求1所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述氣密圍護的換氣率小于0.05d^-1，或者小于0.02d^-1。

4.如權利要求1所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述氣密圍護的氧含量的范圍為小于2％；小于1％；小于0.5％；或者小于等于0.1％，并且將氣密圍護內的氧含量維持在所述的氧含量范圍5天以上，10天以上、20天以上、50天以上、100天以上或200天以上。

5.根據權利要求4所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述除氧劑為鐵系除氧劑或有機系類型除氧劑。

6.如權利要求1所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述控濕劑和/或干燥劑將所述氣密圍護內相對濕度控制在目標相對濕度；其中，在10天以上、20天以上、50天以上、100天以上或200天以上的時間內所述氣密圍護內的相對濕度與所述目標相對濕度之間的差異小于5％，或者小于3％。

7.如權利要求6所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述目標濕度的范圍為20～25℃條件下相對濕度30％-80％。

8.根據權利要求7所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述控濕劑為纖維型控濕劑或硅膠型控濕劑。

9.根據權利要求1所述的低氧恒濕儲藏裝置，其中所述氣密圍護為剛性儲藏柜或展柜。

10.如權利要求1-9任一所述低氧恒濕儲藏裝置的儲藏方法，包括：

布置待處理的物品，并且在所述待處理物品之間保留間隔；

均勻擺放控濕劑和/或干燥劑；

在擺放所述控濕劑和/或干燥劑之后，再均勻擺放除氧劑；以及

立即密封所述低氧恒濕裝置。

11.根據權利要求10所述的低氧恒濕儲藏裝置的儲藏方法，進一步包括：檢查或檢測所述低氧恒濕儲藏裝置的氣密性。

12.根據權利要求10所述的低氧恒濕儲藏裝置的儲藏方法，進一步包括：響應于打開所述低氧恒濕儲藏裝置，將所述除氧劑和控濕劑和/或干燥劑全部取出并更換；以及，再重新密封所述低氧恒濕裝置。