[發明專利]一種光學透鏡拋光兩段加工工藝在審
| 申請號: | 202010317783.1 | 申請日: | 2020-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN111438593A | 公開(公告)日: | 2020-07-24 |
| 發明(設計)人: | 陳志艷 | 申請(專利權)人: | 陳志艷 |
| 主分類號: | B24B13/00 | 分類號: | B24B13/00;B24B1/00;B24B57/02;B24B49/00;B24B49/16 |
| 代理公司: | 成都頂峰專利事務所(普通合伙) 51224 | 代理人: | 王霞 |
| 地址: | 473000 河*** | 國省代碼: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 光學 透鏡 拋光 加工 工藝 | ||
本發明涉及一種光學透鏡拋光兩段加工工藝,包括下述步驟:S1、備料,根據透鏡的規格選擇相應的拋光機;S2、調整拋光機的參數;S3、沖刷拋光機,確保工作環境的清潔度;S4、添加拋光粉,制備拋光液;S5、安裝透鏡,將透鏡固定在夾具上,并放入拋光模中;S6、啟動拋光機,對透鏡進行兩段加工;S7、檢驗,對透鏡的各項參數進行檢測,檢驗合格可流轉至下道工序。對于發光件的透鏡,檢驗合格就是成品。通過上述技術方案,拋光能夠去除精磨的破壞層,達到規定的表面粗糙度要求,并且能精修面形,達到圖紙規定的表面面形(光圈N及局部⊿N)的要求。由此獲得較好的表面光潔度,提高透鏡的成品率。并且還可以縮短加工時間,提高生產效率。
技術領域
本發明涉及光學材料加工技術領域,具體地,涉及一種光學透鏡拋光兩段加工工藝。
背景技術
拋光工序是光學透鏡獲得光學表面最重要的工序,其目的一是在于去除精磨的破壞層,使透鏡表面達到圖面規定的外觀限度要求;二是在于精修面形,達到圖面規定的曲率半徑R值,滿足光圈高低要求及光圈局部要求。
對于光學透鏡而言,對其表面光潔度、面型等質量要求較高,尤其是在天文、軍事、交通、醫學、等領域。
目前透鏡常使用下擺機或平擺機等拋光設備對光學鏡片進行拋光,然而在加工過程中,由于光學透鏡極易產生麻點、燒傷等問題,嚴重影響了合格率以及成品率。
發明內容
本發明的目的是提供一種光學透鏡拋光兩段加工工藝,以提高透鏡拋光的產量、合格率以及成品率。
為了實現上述目的,本發明提供一種光學透鏡拋光兩段加工工藝,包括下述步驟:
S1、備料,根據透鏡的規格選擇相應的拋光機;
S2、調整拋光機的參數;
S3、沖刷拋光機,確保工作環境的清潔度;
S4、添加拋光粉,制備拋光液;
S5、安裝透鏡,將透鏡固定在夾具上,并放入拋光模中;
S6、啟動拋光機,對透鏡進行兩段加工;
S7、檢驗,對透鏡的各項參數進行檢測,檢驗合格可流轉至下道工序,其中,對于發光件的透鏡,檢驗合格就是成品。
可選地,在步驟S6中,所述兩段加工包括一段加工和二段加工,其中第一段加工主要目的是去除精磨的凸凹層和裂紋層,要完成對透鏡表面外觀的保證。第二段加工的條件可以做出更高精度的面型和光潔度。工藝條件方面:第一段高轉速、高壓力、高濃度來保證外觀要求,第二段則采用低轉速、低壓力、低濃度的拋光條件,更好的保證面型和光潔度的要求。
可選地,根據透鏡的規格選擇以下的加工方式之一:
1)、選擇下擺拋光機:一段加工時轉速(288~360)×10r/min,二段轉速(180~288)×10r/min;
2)、選擇平擺拋光機:固定轉速為897RPM;
3)、選擇四(六)軸拋光機:一段加工時擺速為40~60CPM,二段加工時擺速為30~60CPM;
4)、選擇下擺拋光機:一段加工時擺速30~60CPM,二段擺速30~50CPM
可選地,在步驟S2中,根據透鏡的規格調整拋光機的壓力:
1)、對于下擺拋光機,調整彈簧壓力一段加工時為2~5MPa,二段加工時為0~2MPa;
2)、對于平擺拋光機,調整壓力表在一段加工時為2~5MPa,二段加工時為0~2MPa。
可選地,在步驟S1~S6中,室內的溫度環境控制為20℃~29℃。
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