[發明專利]一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝

在審

• 申請號: 202010317167.6
• 申請日: 2020-04-21
• 公開（公告）號: CN111592344A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發明（設計）人: 曾昭波;溫桂圓
• 申請（專利權）人: 福建省德化縣嘉發陶瓷有限公司
• 主分類號: C04B35/14
• 分類號: C04B35/14;C04B35/622;C04B35/64;C03C8/04;C03C8/14;C04B35/626
• 代理公司: 泉州君典專利代理事務所(普通合伙) 35239
• 代理人: 宋艷梅

1.一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述工藝瓷包括坯體和釉料；

所述坯體包括以下重量份的原料：長石23-30份、德化高嶺土25-30份、德化石英30-35份、白云石15-18份、海泡石5-10份、硅藻土8-12份、鋰輝石10-16份、硅酸鋯1-3份、氧化鈦0.5-1份、氧化錫0.3-0.5份；

所述釉料包括以下重量份的原料：鈣長石15-18份、水鎂石15-20份、透輝石10-12份、德化石英20-30份、熔塊8-10份、氧化錳1-3份、氧化鐵3-5份、氧化鈦1-2份、氧化鎳1-2份；

所述熔塊的化學組成如下：SiO₂：58.3-65.8％、Al₂O₃：12.7-16.2％、MgO：7.8-9.2％、K₂O：4.1-4.7％、Fe₂O₃：5.2-5.8％、ZnO：2.2-4.1％、Li₂O：1.6-2.3％；

其制備工藝包括如下步驟：

步驟一，按坯體和釉料原料配方稱重配料，原料分別粉碎、混合、濕法球磨，制得坯漿和釉漿；

步驟二，將制得的坯漿經過磁選機多次除鐵，至坯漿的含鐵量低于0.05％；

步驟三，將坯漿制成陶瓷坯體，并送入窯爐中，在780-820℃素燒下素燒6-7h；

步驟四，在陶瓷素坯表面施釉漿，待陶瓷素坯表面的釉漿干燥后，將陶瓷素坯送入窯爐中燒制成型，燒成具體控制如下：

低溫階段：窯爐內由常溫升至290-310℃，保溫燒制1-2h；

分解氧化階段：窯爐內升溫至850-880℃，保溫燒制3.5-4.5小時；

還原階段：窯爐內繼續升溫至1050-1100℃，保溫燒制2-3h；

高溫燒成階段：窯爐內繼續升溫至1210-1230℃，保溫燒制1.5-2小時；

自然冷卻階段：窯爐內冷卻至室溫，冷卻時間延長至10小時以上。

2.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述步驟四的還原階段中，一氧化碳的含量為4.3-5.1％，氧氣的含量為1.5-1.8％。

3.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述步驟四的高溫燒成階段中，一氧化碳的含量為8.2-9.4％，氧氣的含量為0.2-0.3％。

4.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述步驟一中釉漿濕球磨時，原料在球磨機中濕法研磨32-36小時，研磨介質為水，原料：球：水＝1:1.5-2:1.8-2。

5.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述步驟一中坯漿濕球磨時，原料在球磨機中濕法研磨22-24小時，研磨介質為水，原料：球：水＝1:1.2-1.5:1-1.5。

6.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述釉料的厚度為0.4-0.5mm。

7.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述釉漿的施釉方式為浸釉或淋釉。

8.根據權利要求1所述的一種無開片粉青釉工藝瓷的制備工藝，其特征在于：所述步驟二中，磁選機的強度為18000-20000GS。