[發明專利]磁吸式三棱鏡結構及光學件

在審

• 申請號: 202010316784.4
• 申請日: 2020-04-21
• 公開（公告）號: CN111399167A
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 魏紅;羅華;田興國;刁燕;李翔龍;劉隴黔
• 申請（專利權）人: 四川大學華西醫院
• 主分類號: G02B7/18
• 分類號: G02B7/18;A61B3/08
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 楊鵬

1.一種磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，包括三棱鏡和磁吸結構；

所述三棱鏡至少具有兩個呈夾角設置的光學平面，所述光學平面用于光入射或者光射出；

所述磁吸結構安裝于所述三棱鏡；

所述磁吸結構用于與另一所述磁吸式三棱鏡結構的所述磁吸結構磁性配合，且使得所述光學平面與另一所述磁吸式三棱鏡結構的所述光學平面相貼合。

2.根據權利要求1所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述磁吸結構轉動安裝在三棱鏡上，且能在另一所述磁吸式三棱鏡結構的磁吸結構的磁力作用下翻轉以調整磁極。

3.根據權利要求2所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述磁吸結構為柱形，所述磁吸結構的磁極位于其沿徑向方向的兩側，且所述磁吸結構以其軸向方向為轉動軸轉動連接于所述三棱鏡。

4.根據權利要求2所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述三棱鏡具有兩個端面，至少一個所述端面上靠近所述光學平面的一側開設有安裝槽，所述磁吸結構轉動安裝于所述安裝槽內部。

5.根據權利要求4所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述端面上設置有至少兩個所述磁吸結構，兩個所述磁吸結構分別與兩個所述光學平面相對應，且所述磁吸結構的軸線與相對應的所述光學平面相平行。

6.根據權利要求2所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述磁吸結構呈柱形，所述磁吸結構的磁極位于其軸向方向的兩端，且所述磁吸結構以其徑向方向為轉動軸轉動連接于所述三棱鏡。

7.根據權利要求6所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述磁吸結構嵌設在光學平面內，且至少一個所述光學平面上的所述磁吸結構不伸出所述光學平面。

8.根據權利要求6所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述磁吸結構安裝在所述光學平面上沿三棱鏡的軸向方向的兩側。

9.根據權利要求1-8中任意一項所述的磁吸式三棱鏡結構，其特征在于，所述三棱鏡包括鏡體和載體，所述鏡體具有呈夾角設置的兩個鏡面，兩個所述鏡面用于光入射或者光射出，所述載體安裝在所述鏡體的端部，所述磁吸結構安裝在所述載體上；

當所述磁吸結構與另一所述磁吸式三棱鏡結構的所述磁吸結構磁性配合時，所述鏡面與另一所述磁吸式三棱鏡結構的所述鏡面相貼合。

10.一種光學件，其特征在于，包括至少兩個如權利要求1-9中任意一項所述的磁吸式三棱鏡結構，其中一個所述磁吸式三棱鏡結構的所述磁吸結構與另一個所述磁吸式三棱鏡結構的磁吸結構磁性配合，且使得其中一個所述磁吸式三棱鏡結構的光學平面和另一個所述磁吸式三棱鏡結構的所述光學平面相重合。