[發明專利]一種微鏡裝置及其制備方法在審
| 申請號： | 202010315540.4 | 申請日： | 2020-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN113534442A | 公開（公告）日： | 2021-10-22 |
| 發明（設計）人： | 馬宏 | 申請（專利權）人： | 覺芯電子（無錫）有限公司 |
| 主分類號： | G02B26/08 | 分類號： | G02B26/08;B81B7/02;B81C1/00 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝傳鑫;賈允 |
| 地址： | 214000 江蘇省無錫市濱湖區*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 裝置 及其 制備 方法 | ||
1.一種微鏡裝置，其特征在于，包括襯底層(110)、第一掩埋層(150)和器件結構層，所述襯底層(110)、所述第一掩埋層(150)和所述器件結構層依次層疊連接；
所述器件結構層包括可動結構，所述可動結構包括可動鏡面(121)和驅動板(123)；
所述可動鏡面(121)的正面和所述驅動板(123)上均設有減重部(127)，所述可動鏡面(121)的背面設有金屬反射層；
所述襯底層(110)上設置有背腔結構，所述背腔結構能夠為可動結構提供運動空間；
所述第一掩埋層(150)上設有通光區域，所述背腔結構和所述通光區域能夠將所述金屬反射層暴露在外。
2.根據權利要求1所述的微鏡裝置，其特征在于，所述減重部(127)包括刻蝕槽。
3.根據權利要求2所述的微鏡裝置，其特征在于，所述器件結構層包括第一器件層(120)、第二掩埋層(140)和第二器件層(130)，所述第一器件層(120)、所述第二掩埋層(140)和所述第二器件層(130)依次層疊連接；
所述可動結構設于所述第一器件層(120)上；
所述減重部(127)設于所述可動鏡面(121)與所述第一掩埋層(150)間隔的一面，所述金屬反射層設于所述可動鏡面(121)與所述第一掩埋層(150)連接的一面。
4.根據權利要求2所述的微鏡裝置，其特征在于，所述器件結構層包括第一器件層(120)、第二掩埋層(140)和第二器件層(130)，所述第一器件層(120)、所述第二掩埋層(140)和所述第二器件層(130)依次層疊連接；
所述可動結構設于所述第二器件層(130)上；
所述減重部(127)設于所述可動鏡面(121)與所述第二掩埋層(140)間隔的一面，所述金屬反射層設于所述可動鏡面(121)與所述第二掩埋層(140)連接的一面。
5.根據權利要求3所述的微鏡裝置，其特征在于，所述可動鏡面(121)上的刻蝕槽的深度小于所述第一器件層(120)的厚度。
6.根據權利要求4所述的微鏡裝置，其特征在于，所述可動鏡面(121)上的刻蝕槽的深度小于所述第二器件層(130)的厚度。
7.根據權利要求3所述的微鏡裝置，其特征在于，還包括加固框架(131)；
所述加固框架(131)設于所述第二器件層(130)上，所述加固框架(131)與所述可動結構鍵合成整體，所述加固框架(131)能夠加固所述可動結構；
或；
所述加固框架(131)刻蝕于所述可動結構上；所述加固框架(131)能夠加固所述可動結構。
8.根據權利要求4所述的微鏡裝置，其特征在于，還包括加固框架(131)；
所述加固框架(131)刻蝕于所述可動結構上；所述加固框架(131)能夠加固所述可動結構。
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