[發明專利]一種直流接觸器滅弧吹弧裝置在審
| 申請號: | 202010311292.6 | 申請日: | 2020-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN113539746A | 公開(公告)日: | 2021-10-22 |
| 發明(設計)人: | 李思泓;孫吉升;萬里浩;賈峰;馮璟 | 申請(專利權)人: | 上海電器科學研究所(集團)有限公司;上海電器科學研究院 |
| 主分類號: | H01H50/00 | 分類號: | H01H50/00;H01H50/54;H01H50/12;H01H33/72;H01H33/08;H01H33/18 |
| 代理公司: | 上海璀匯知識產權代理事務所(普通合伙) 31367 | 代理人: | 王文穎 |
| 地址: | 200063 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 直流 接觸器 滅弧吹弧 裝置 | ||
1.一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,直流接觸器包括觸頭系統、滅弧系統、電磁系統和殼體;所述殼體內設有觸頭系統、滅弧系統和電磁系統;所述觸頭系統包括靜觸頭和動觸頭;所述電磁系統包括驅動中軸、靜鐵芯、動鐵芯、骨架線圈、金屬杯以及軛鐵;所述電磁系統上方設有觸頭系統,觸頭系統周邊設有滅弧系統;其特征在于:所述滅弧系統包括滅弧室、引弧裝置、隔弧裝置和磁吹裝置;所述滅弧室設于直流接觸器動觸頭與靜觸頭之間相對運動區域的外側周邊,兩個靜觸頭之間;所述動觸頭和滅弧室設有引弧裝置;所述殼體內設有圓筒形的隔弧裝置;圓筒形的隔弧裝置的圓筒壁和殼體之間設有磁吹裝置。
2.如權利要求1所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述的引弧裝置包括動觸頭設有的引弧部和滅弧室設有的引弧片;所述動觸頭上設有向滅弧室延伸的引弧部;所述滅弧室靠近靜觸頭的一端設有向靜觸頭延伸的引弧片。
3.如權利要求2所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述動觸頭的引弧部設為從動觸頭平面沿產生電弧路徑的方向向滅弧室折彎延伸的折彎部。
4.如權利要求2所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述的滅弧室設有層狀平行排列的柵片,所述柵片沿產生電弧路徑的方向設有彎曲頭部;所述柵片相對應所述動觸頭的引弧部設有引弧槽;所述滅弧室頂端設有引弧片,引弧片靠近靜觸頭的一端沿產生電弧路徑的方向與柵片彎曲頭部同一方向也設有彎曲頭部,引弧片的彎曲頭部長度大于所述柵片的彎曲頭部長度。
5.如權利要求4所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述隔弧裝置包括滅弧腔體和所述動觸頭驅動中軸上設有的隔弧板;所述滅弧腔體設為以驅動中軸為中軸線的圓筒形,滅弧腔體內設有滅弧室和觸頭系統;圓筒形滅弧腔體靠近動觸頭的一端開口,另一端設有基板;圓筒形滅弧腔體設有連續的圓筒壁;所述基板上垂直于基板設有兩段相對驅動中軸中心對稱布置的弧形隔板;所述的動觸頭頂端設有垂直于動觸頭平面的隔弧板,隔弧板設于動觸頭頂端部的中間位置,將動觸頭與靜觸頭接觸的兩個觸點分隔在兩個空間內。
6.如權利要求5所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述圓筒形滅弧腔體圓筒壁設為間隔布置的兩種大小直徑的四個直角扇形弧面組成,所述兩段不同直徑的直角扇形弧面連接處設于兩個靜觸頭連接線上。
7.如權利要求5所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述基板上設有穿設兩個靜觸頭的通孔,所述兩個靜觸頭的通孔之間和滅弧室和動觸頭之間相對于驅動中軸中心對稱設有兩段垂直于所述基板的弧形隔板;弧形隔板遠離引弧片彎曲頭部的一端靠近一側的靜觸頭,弧形隔板的另一端設于所述引弧片彎曲頭部與另一側靜觸頭相對區域的外側。
8.如權利要求7所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述弧形隔板設有導引部,弧形隔板靠近靜觸頭一側的導引部逐漸靠近靜觸頭時與圓筒形滅弧腔體的圓筒壁之間形成的間隙逐漸縮小。
9.如權利要求8所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述兩段弧形隔板各設有垂直于基板用于限制動觸頭運動導向的相對應的兩個筋板,所述同一段弧形隔板上設有的筋板設于與驅動中軸等距的兩側,相對應的筋板與驅動中軸的隔弧板形成將動觸頭與靜觸頭接觸的兩個觸點分隔在兩個空間的隔斷結構。
10.如權利要求1至9中任一項所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述殼體和隔弧裝置之間設有磁吹裝置,磁吹裝置包括所述隔弧裝置的圓筒壁外側設有的以驅動中軸中心對稱的圓弧形的兩個永磁體;兩個圓弧形的永磁體設于以驅動中軸為中心軸的虛擬圓筒壁上;兩個永磁體以異性極相面對。
11.如權利要求10所述的一種直流接觸器滅弧吹弧裝置,其特征在于:所述動觸頭的引弧裝置和滅弧室的引弧裝置相對應處設于所述磁吹裝置的兩個永磁體之間磁場的中間區域;所述滅弧室尾部設于兩個永磁體之間磁場的邊緣區域;所述兩個永磁體之間磁場覆蓋電弧運動路徑。
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