[發明專利]除味裝置及環境凈化設備在審
| 申請號： | 202010306094.0 | 申請日： | 2020-04-17 |
| 公開（公告）號： | CN111450689A | 公開（公告）日： | 2020-07-28 |
| 發明（設計）人： | 閔峰;王明石;李富昌 | 申請（專利權）人： | 蘇州庚澤新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | B01D53/78 | 分類號： | B01D53/78;B01D53/76;C25B1/13;C25B1/30;C25B1/00;C25B11/06;C25B9/00 |
| 代理公司： | 北京律和信知識產權代理事務所(普通合伙) 11446 | 代理人： | 謝清萍;武玉琴 |
| 地址： | 215007 江蘇省蘇州市工業園*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 裝置 環境 凈化 設備 | ||
1.一種除味裝置，其特征在于，包括：
本體；
氧化性物質發生單元，設置在所述本體上，設有電極組件，所述電極組件電解液體產生氧化性物質，用以與所處理氣體中的有機污染物和還原性無機物反應；所述電極組件包括電極板和連接件，所述電極板包括陰極板和設置有帶有催化劑膜層的陽極板，所述連接件用于連接所述陰極板和所述陽極板，及用于連接多個所述電極板；
其中，所述催化劑膜層的催化劑由以下步驟制得：
往SnC2O4中加入去離子水，攪拌均勻后獲得第一漿料；
往所述第一漿料中加入Sb2O3，加熱并攪拌均勻后獲得第二漿料；
將所述第二漿料加熱，并往所述第二漿料中加入Ni(CH3COO)2·4H2O和/或Co(CH3COO)2·4H2O和/或Cu(CH3COO)2·H2O和/或Fe(CH3COO)2，攪拌均勻后獲得第三漿料；
將所述第三漿料加熱至50℃～90℃，然后加入5～70重量份的雙氧水，雙氧水濃度為3％～70％，繼續攪拌1～3小時至反應結束后停止加熱，待反應釜內物料沉淀完全后，取上層懸浮液，獲得所述催化劑。
2.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，還包括：
控制單元，設置在所述本體上，與所述氧化性物質發生單元相連，用于控制所述氧化性物質生成速率及數量。
3.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，所述連接件包括：陽極板導電連接件、陰極板導電連接件、極板定位槽、陰陽極板絕緣隔斷和/或支架中的一個或多個；
其中，所述陽極板導電連接件與所述陽極板連接，所述陰極板導電連接件與所述陰極板連接，所述陰極板與所述陽極板之間由所述陰陽極板絕緣隔斷連接，所述陰極板與陽極板固定在所述支架上由所述極板定位槽固定。
4.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，所述陰極板、所述陽極板和所述連接件的表面都設有導流孔。
5.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，所述氧化性物質包括：
O3、·OH和H2O2。
6.根據權利要求2所述的除味裝置，其特征在于，所述控制單元以模擬和/或數字模擬的方式，控制所述氧化性物質的生成速率及數量。
7.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，還包括：
供電系統，設置在所述本體上，給所述除味裝置供電。
8.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，還包括設置在所述液體容納裝置上的：
能源輔助模塊、輔助添加模塊、檢測模塊、攪拌模塊、混合模塊、抽取模塊中的至少一種或多種。
9.根據權利要求1所述的除味裝置，其特征在于，所述氧化性物質與所述所處理氣體接觸形式包括：氣體—氣體接觸和/或液體—氣體接觸，并發生氧化還原反應。
10.根據權利要求9所述的除味裝置，其特征在于，所述液體－氣體接觸包括：在所述除味裝置內電極組件進行液體—氣體接觸時，產生的所述氧化性物質凈化所述液體，用以循環使用所述液體。
11.一種環境凈化設備，其特征在于，包括如權利要求1～10中任一項所述的除味裝置。
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