[發(fā)明專利]光源均勻性的檢測(cè)系統(tǒng)及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010301472.6
• 申請(qǐng)日: 2020-04-16
• 公開（公告）號(hào): CN111487037A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 顏博霞;亓巖;王延偉;韓哲;范元媛;王宇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院微電子研究所
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02;G01J1/42
• 代理公司: 北京辰權(quán)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11619
• 代理人: 付婧

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N光源均勻性的檢測(cè)系統(tǒng)及方法，該檢測(cè)系統(tǒng)包括：熒光裝置、濾光裝置、攝像裝置及處理裝置；熒光裝置接受待測(cè)光源發(fā)射的光波，以激發(fā)熒光物質(zhì)發(fā)射具有熒光波長(zhǎng)的熒光輻射；濾光裝置使所述熒光物質(zhì)發(fā)射的熒光輻射通過(guò)，而使所述待測(cè)光源發(fā)射的光波過(guò)濾；攝像裝置感應(yīng)通過(guò)所述濾光裝置的所述熒光輻射，生成所述熒光輻射對(duì)應(yīng)的光譜圖像，并將光譜圖像發(fā)送至處理裝置；處理裝置對(duì)獲取到的光譜圖像進(jìn)行處理分析，依據(jù)所述光譜圖像中不同位置的熒光輻射強(qiáng)度，判斷待測(cè)光源的均勻性是否合格。本方案，通過(guò)檢測(cè)光源投射熒光物質(zhì)后激發(fā)的光譜亮度，可以有效的快速檢測(cè)光源的均勻性，同時(shí)可以克服光源亮度高造成的CCD相機(jī)飽和等現(xiàn)象。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及光源檢測(cè)技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光源均勻性的檢測(cè)系統(tǒng)及方法。

背景技術(shù)

面激光光源在激光顯示中有著重要的應(yīng)用，在激光顯示中將紅、綠、藍(lán)(RGB)三基色激光合成為白光光源，并經(jīng)過(guò)積分棒、勻光片和投影鏡頭等光學(xué)器件將面光源投射到屏幕上。測(cè)試投影面光源的均勻性，一般是采用亮度計(jì)/照度計(jì)等逐點(diǎn)采集投影屏幕上的亮度，得到光源的均勻性。然而，在屏幕較大時(shí)會(huì)采集不便利，時(shí)間較長(zhǎng)。另外，也可以通過(guò)CCD相機(jī)采集投影屏幕上直接漫反射的光，但其經(jīng)常因亮度太高導(dǎo)致CCD相機(jī)飽和，很難分辨光源的均勻性。此外，面激光光源在機(jī)器視覺(jué)、激光照明等多個(gè)領(lǐng)域也有廣泛應(yīng)用。

線激光光源在機(jī)器視覺(jué)、檢測(cè)、定位等多個(gè)領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用，其通常采用測(cè)試一字線上的多點(diǎn)功率獲得其光強(qiáng)均勻性，但其也經(jīng)常因亮度太高導(dǎo)致CCD相機(jī)飽和，很難分辨光源的均勻性。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)的目的是提供一種光源均勻性的檢測(cè)系統(tǒng)、一種光源均勻性的檢測(cè)方法。

本申請(qǐng)第一方面提供一種光源均勻性的檢測(cè)系統(tǒng)，包括：

熒光裝置、濾光裝置、攝像裝置及處理裝置；

所述熒光裝置包含熒光物質(zhì)，用于接受待測(cè)光源發(fā)射的光波，以激發(fā)熒光物質(zhì)發(fā)射具有熒光波長(zhǎng)的熒光輻射；

所述濾光裝置，用于使所述熒光物質(zhì)發(fā)射的熒光輻射通過(guò)，而使所述待測(cè)光源發(fā)射的光波過(guò)濾；

所述攝像裝置與所述處理裝置通信連接，所述攝像裝置用于感應(yīng)通過(guò)所述濾光裝置的所述熒光輻射，生成所述熒光輻射對(duì)應(yīng)的光譜圖像，并將所述光譜圖像發(fā)送至所述處理裝置；

所述處理裝置，用于對(duì)獲取到的光譜圖像進(jìn)行處理分析，依據(jù)所述光譜圖像中不同位置的熒光輻射強(qiáng)度，判斷待測(cè)光源的均勻性是否合格。

在本申請(qǐng)的一些實(shí)施方式中，所述熒光物質(zhì)具有均勻的預(yù)設(shè)溶度。

在本申請(qǐng)的一些實(shí)施方式中，所述熒光裝置為石英玻璃制作的長(zhǎng)方體盒子。

在本申請(qǐng)的一些實(shí)施方式中，所述待測(cè)光源的發(fā)光功率小于等于預(yù)設(shè)功率。

在本申請(qǐng)的一些實(shí)施方式中，所述待測(cè)光源為線激光光源或面激光光源。

在本申請(qǐng)的一些實(shí)施方式中，所述攝像裝置為CCD相機(jī)。

本申請(qǐng)第二方面提供一種光源均勻性的檢測(cè)方法，基于上述第一方面中所述的光源均勻性的檢測(cè)系統(tǒng)，所述方法包括：

熒光裝置接受待測(cè)光源發(fā)射的光波，以激發(fā)熒光物質(zhì)發(fā)射具有熒光波長(zhǎng)的熒光輻射；

濾光裝置使所述熒光物質(zhì)發(fā)射的熒光輻射通過(guò)，而使所述待測(cè)光源發(fā)射的光波過(guò)濾；

攝像裝置感應(yīng)通過(guò)所述濾光裝置的所述熒光輻射，生成所述熒光輻射對(duì)應(yīng)的光譜圖像，并將所述光譜圖像發(fā)送至處理裝置；

處理裝置對(duì)獲取到的光譜圖像進(jìn)行處理分析，依據(jù)所述光譜圖像中不同位置的熒光輻射強(qiáng)度，判斷待測(cè)光源的均勻性是否合格。