[發(fā)明專利]一種低雜質(zhì)含量的氫氧化鎂懸浮液及其制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010295148.8
• 申請(qǐng)日: 2020-04-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111450724B
• 公開(kāi)（公告）日: 2022-05-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉其鋒;徐松林;張明磊;王芝洪;張素芳
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 山東格潤(rùn)德環(huán)保科技有限公司
• 主分類號(hào): B01F23/50
• 分類號(hào): B01F23/50;C08K3/22
• 代理公司: 山東華君知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 37300
• 代理人: 呂翠蓮

1.一種低雜質(zhì)含量的氫氧化鎂懸浮液的制備方法，其特征在于，包括：配料、旋流除雜、濕法研磨、檢測(cè)、脫鈣、濃縮、漿料調(diào)配；

所述旋流除雜，將所述配料制得的漿料置入一號(hào)水力旋流機(jī)組中，進(jìn)行除雜處理；所述漿料從溢流管進(jìn)入漿料儲(chǔ)存罐，備用；除雜后的含渣漿料從一號(hào)水力旋流機(jī)組底部排料口進(jìn)入一號(hào)斜板沉降槽，向所述一號(hào)斜板沉降槽補(bǔ)水噴淋，進(jìn)水量為1~2m³/h，調(diào)整所述一號(hào)斜板沉降槽底部匯集的漿料固含量為15~17%；將所述一號(hào)斜板沉降槽底部的含渣漿料，置入二號(hào)水力旋流機(jī)組，進(jìn)行除雜處理；漿料從溢流管進(jìn)入漿料儲(chǔ)存罐，備用；

所述濕法研磨，包括二級(jí)串聯(lián)研磨；

其中，一級(jí)研磨，對(duì)所述旋流除雜后的漿料進(jìn)行一級(jí)研磨，研磨至漿料粒徑D50=2.5~3.0μm后，經(jīng)200目超聲波振動(dòng)篩分后，進(jìn)入二級(jí)研磨；

所述二級(jí)研磨，對(duì)所述一級(jí)研磨后的漿料進(jìn)行二級(jí)研磨，研磨至漿料粒徑D50=1.0~1.5μm后，經(jīng)325目超聲波振動(dòng)篩分后，備用；

所述檢測(cè)，對(duì)所述濕法研磨后的漿料進(jìn)行取樣烘干檢測(cè)，檢測(cè)所述漿料中CaO占所述漿料總重量的百分比數(shù)值；

所述脫鈣，所述漿料中CaO占所述漿料總重量的百分比數(shù)值大于等于1.5%時(shí)，則在濕法研磨后，進(jìn)行脫鈣處理；

所述脫鈣，攪拌狀態(tài)下，向研磨后的漿料中加入水，將所述漿料的固含量稀釋至4~8%，然后加入脫鈣劑，將所述漿料加熱至80~90℃，保溫反應(yīng)2~4h，備用；

所述攪拌，攪拌轉(zhuǎn)速為90~120RPM；

所述脫鈣劑為氯化鎂，所述氯化鎂含量為5~95%，其余成分為水；

所述脫鈣劑用量，為所述漿料中CaO含量的2~4倍；

所述濃縮，對(duì)漿料進(jìn)行濃縮處理，濃縮至漿料固含量為30~60%，備用；所述濃縮量為20~30 m³/h，溢流漿固含量為1~4%。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低雜質(zhì)含量的氫氧化鎂懸浮液的制備方法，其特征在于，所述配料，將含有氫氧化鎂的物質(zhì)按重量分為四等份，攪拌狀態(tài)下，依次添加至溶解有分散劑的水中；添加時(shí)，在前一等份的氧化鎂加入水中且攪拌至無(wú)團(tuán)聚粉料后，加入后一等份的氧化鎂；所述四等份的氧化鎂全部添加至水中后，繼續(xù)攪拌45~60min，制得固含量為20%的漿料；所述分散劑為共聚物鈉鹽；所述分散劑添加量占所述漿料重量的2~3%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種低雜質(zhì)含量的氫氧化鎂懸浮液的制備方法，其特征在于，所述漿料調(diào)配，攪拌狀態(tài)下，將濃縮步驟制得的氫氧化鎂漿料，與分散劑、水混合，繼續(xù)攪拌30~60min，制得低雜質(zhì)含量的氫氧化鎂懸浮液；所述分散劑添加量占所述氫氧化鎂懸浮液總重量的2~3%。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種低雜質(zhì)含量的氫氧化鎂懸浮液的制備方法，其特征在于，所述漿料調(diào)配，分散劑為共聚物鈉鹽。