[發明專利]一種光罩及其制備方法在審
| 申請號： | 202010291264.2 | 申請日： | 2020-04-14 |
| 公開（公告）號： | CN111446384A | 公開（公告）日： | 2020-07-24 |
| 發明（設計）人： | 吳令戀 | 申請（專利權）人： | TCL華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | H01L51/56 | 分類號： | H01L51/56;H01L51/52 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 遠明 |
| 地址： | 518132 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 及其 制備 方法 | ||
1.一種光罩，其特征在于，其包括
光罩本體；
散熱層，設于所述光罩本體表面；
反射層，設于所述散熱層上。
2.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，所述散熱層的材料采用透明石墨烯。
3.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，所述散熱層的透光率大于90％。
4.根據權利要求1所述的改性的光罩，其特征在于，所述反射層采用分布式布拉格反射鏡，所述反射層反射波長范圍在0-350nm和370nm-400nm的光。
5.一種制備方法，用以制備如權利要求1所述的光罩，其特征在于，包括以下步驟：
提供一光罩本體；
制備散熱層于所述光罩本體表面；
制備反射層于所述散熱層上。
6.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于，通過噴墨打印方法或化學氣相沉積方法制備所述散熱層于所述光罩本體上。
7.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述噴墨打印方法制備所述散熱層包括
將透明石墨烯材料與溶劑形成溶液，以噴墨方式打印在所述光罩本體表面。
8.如權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述化學氣相沉積方法制備所述散熱層包括
將碳氫氣體吸附在具有催化活性的金屬表面，通過高溫加熱使得所述碳氫氣體脫氫，制得石墨烯散熱層。
9.如權利要求8所述的制備方法，其特征在于，所述碳氫氣體采用乙炔或乙烯，具有催化活性的金屬采用銅金屬或鎳金屬。
10.如權利要求5所述的制備方法，其特征在于，通過鍍膜沉積方式制備反射層。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件；專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的；具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射；專門適用于將這些輻射能轉換為電能，或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的，如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
