[發明專利]一種油墨層的加工方法

在審

• 申請號: 202010282256.1
• 申請日: 2020-04-11
• 公開（公告）號: CN111290222A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 張柯;李偉成;張雷
• 申請（專利權）人: 蘇州源卓光電科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明的一種油墨層的加工方法，包括如下步驟：（1）在基板上涂覆油墨層；（2）對所述油墨層進行前烘；（3）對所述油墨層進行圖像曝光操作；（4）進行顯影操作；（5）多波段混合光源對油墨層進行曝光固化。通過過在顯影后進行多波段光源對基板曝光，使得油墨的固化效果更好，而在曝光步驟中也可以采用相近或同一波長光源進行曝光操作，相較于多波段光源可獲得較大的光能量，曝光效率也更高。

技術領域

本發明涉及曝光領域，具體為一種油墨層的加工方法。

背景技術

曝光技術廣泛應用于半導體和PCB生產領域，是制作半導體器件、芯片和PCB板等產品的工藝步驟之一，其用于在基底表面上印刷特征圖形，最終獲得依據電路設計所需的圖形結構。傳統的曝光技術需要制作掩膜的母版或者菲林底片進行曝光操作，制作周期長，且每一版對應單一圖形，不能廣泛應用。為解決傳統曝光技術的問題，直寫曝光機構應運而生，其利用數字光處理技術，通過可編程的數字反射鏡裝置實現編輯不同的所需的圖形結構，能夠快速切換圖形，其不僅可以降低成本，還可以減少制程的時間，正廣泛應用于曝光技術領域。

直寫曝光的原理是通過曝光的方法將設計圖像轉移到涂覆于基底表面的感光材料上，然后通過顯影、刻蝕等工藝，最終獲得所需的圖形結構。感光材料是曝光工藝中的關鍵材料之一，常用的感光材料包括光刻膠、防焊油墨，濕膜，干膜等多種材料，其通過光照后形成相對于某些溶劑的可溶物或者不可溶物，通過刻蝕去除或者保留所述光刻膠，形成所需的圖形結構。在曝光工藝中，一般包括前處理、涂覆油墨層、前烘、對準曝光、顯影、后烘等工序。目前對于油墨的曝光，多在進行圖形曝光是采用多波段光源進行曝光，以保證油墨的對光源的敏感度，獲得較佳的固化效果，但是在進行圖形曝光時采用多波段的光源，受限于光線波長的差距，光源的能量低，曝光速度慢、效率低。

發明內容

本發明旨在提供本發明旨在提供一種高效率、低成本的油墨層加工方法。

其技術方案是這樣的：一種油墨層的加工方法，包括如下步驟：

（1）在基板上涂覆油墨層；（2）對所述油墨層進行前烘；（3）對所述油墨層進行圖像曝光操作；（4）進行顯影操作；（5）多波段混合光源對油墨層進行曝光固化。

進一步的，所述步驟（3）中曝光光源為單一波長光源或者混合波長光源。

進一步的，所述步驟（3）中，所述油墨層上覆蓋有保護層，曝光光源的光線穿過所述保護層對所述油墨層進行曝光。

進一步的，所述保護層為透明材料。

進一步的，所述保護層采用貼敷或者壓蓋方式于所述油墨層上。

進一步的，所述曝光光源包含紅外波段光源和紫外波段光源。

進一步的，所述曝光光源對所述油墨層進行曝光的同時，設置紅外光源同時照射曝光區域。

進一步的，所述保護層為惰性氣體。

進一步的，所述步驟（3）中先將油墨層上的空氣排出，然后充入惰性氣體形成保護層覆蓋于所述油墨層上。

進一步的，所述步驟（3）中充入比空氣密度大的惰性氣體，在所述油墨層上形成保護層。

進一步的，所述步驟（3）中先將油墨層上的空氣排出，真空曝光。

本發明通過在顯影后進行多波段光源對基板曝光，使得油墨的固化效果更好，而在曝光步驟中也可以采用相近或同一波長光源進行曝光操作，相較于多波段光源可獲得較大的光能量，曝光效率也更高。而紅外波段光源的使用，也將進一步的提升圖形曝光時的曝光效率。

附圖說明

圖1為本發明油墨層加工方法的流程圖。

圖2為未加保護層曝光和增加保護層曝光后油墨層光澤度、能量格的數據。