[發明專利]曲線圖形光學鄰近修正方法

有效

• 申請號: 202010280525.0
• 申請日: 2020-04-10
• 公開（公告）號: CN111367149B
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發明（設計）人: 陳世杰;黃增智;郭進
• 申請（專利權）人: 聯合微電子中心有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G03F1/36
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙) 31219
• 代理人: 余明偉

1.一種曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，在對導入的原始設計圖形進行光學鄰近修正后，在進行設計規則檢查前，對曲線圖形邊線進行直角切割處理以形成標準圖形邊線；所述直角切割處理包括采用多條相互連接的沿水平或垂直方向延伸的邊線擬合所述曲線圖形邊線；所述直角切割處理的步驟包括：

采用水平邊線、垂直邊線和傾斜邊線三種邊線擬合所述曲線圖形邊線；

以所述傾斜邊線作為矩形的對角線形成所述矩形，所述矩形的邊線延伸方向與所述水平邊線或所述垂直邊線的延伸方向相同；

從所述矩形中選取相連接的水平邊線和垂直邊線作為矩形邊線，所述水平邊線和所述垂直邊線在遠離其連接端的另一端還分別連接于不同的所述水平邊線、所述垂直邊線或所述傾斜邊線；

連接所述水平邊線、所述垂直邊線和所述矩形邊線以形成所述標準圖形邊線。

2.根據權利要求1所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，所述傾斜邊線的傾斜角度為45度，所述矩形為正方形。

3.根據權利要求1所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，從所述矩形中選取相連接的水平邊線和垂直邊線作為矩形邊線的方法包括：設置面積判斷閾值；當所述矩形與所述曲線圖形的重疊部分的面積大于所述面積判斷閾值時，以所述矩形中遠離所述曲線圖形的相連接的所述水平邊線和所述垂直邊線作為所述矩形邊線；當所述矩形與所述曲線圖形的重疊部分的面積小于所述面積判斷閾值時，以所述矩形中靠近所述曲線圖形的相連接的所述水平邊線和所述垂直邊線作為所述矩形邊線。

4.根據權利要求3所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，所述面積判斷閾值的范圍介于所述矩形面積的20％至80％之間。

5.根據權利要求3所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，當所述矩形與所述曲線圖形的重疊部分的面積等于所述面積判斷閾值時，以所述矩形中遠離所述曲線圖形的相連接的所述水平邊線和所述垂直邊線作為所述矩形邊線。

6.根據權利要求3所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，當所述矩形與所述曲線圖形的重疊部分的面積等于所述面積判斷閾值時，以所述矩形中靠近所述曲線圖形的相連接的所述水平邊線和所述垂直邊線作為所述矩形邊線。

7.根據權利要求1所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，所述傾斜邊線具有多個傾斜角度。

8.根據權利要求1所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，在對所述曲線圖形的邊緣進行所述直角切割處理前，還包括設置亞分辨率輔助圖形的步驟。

9.根據權利要求8所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，所述直角切割處理也包括對于所述亞分辨率輔助圖形的處理。

10.根據權利要求1所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，在對所述曲線圖形的邊緣進行所述直角切割處理后，還包括進行設計規則檢查、光學鄰近修正驗證以及導出最終設計圖形的步驟。

11.根據權利要求10所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，在所述光學鄰近修正驗證后，當所述光學鄰近修正驗證的結果未符合預設目標時，則還包括在當前光學鄰近修正結果的基礎上再次進行所述光學鄰近修正、所述直角切割處理、所述設計規則檢查及所述光學鄰近修正驗證的返回迭代步驟，直至所述光學鄰近修正驗證的結果符合預設目標。

12.根據權利要求1所述的曲線圖形光學鄰近修正方法，其特征在于，所述曲線圖形光學鄰近修正方法用于硅光器件版圖的光學鄰近修正過程。