[發(fā)明專利]射電星表與紅外星表交叉證認(rèn)方法、裝置及可讀存儲(chǔ)介質(zhì)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010280433.2
• 申請(qǐng)日: 2020-04-10
• 公開（公告）號(hào): CN111414572B
• 公開（公告）日: 2023-06-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 樊東衛(wèi)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院國家天文臺(tái)
• 主分類號(hào): G06F17/10
• 分類號(hào): G06F17/10;G06F17/15;G01V11/00
• 代理公司: 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021
• 代理人: 任巖

1.一種射電星表與紅外星表的交叉證認(rèn)方法，其特征在于，包括：

根據(jù)候選射電源組合和預(yù)設(shè)幾何模型，獲取所述候選射電源組合的似然值，其中所述預(yù)設(shè)幾何模型為包括一個(gè)紅外源、一個(gè)射電核以及兩個(gè)噴流瓣的直線非對(duì)稱幾何模型；

通過所述似然值獲取與所述候選射電源組合對(duì)應(yīng)的貝葉斯因子的待證認(rèn)集合；以及

對(duì)所述待證認(rèn)集合進(jìn)行整數(shù)線性優(yōu)化處理，獲取交叉證認(rèn)結(jié)果；

其中，所述候選射電源組合的似然值滿足如下公式：

其中，φ為第一噴流瓣相對(duì)第二噴流瓣的角度偏轉(zhuǎn)量，p(φ)為一維正態(tài)分布概率密度函數(shù)，x₀為所述候選射電源組合對(duì)應(yīng)的紅外源參數(shù)，y₀為所述候選射電源組合對(duì)應(yīng)的射電核參數(shù)，y₁為所述第一噴流瓣參數(shù)，y₂為所述第二噴流瓣參數(shù)，m₀為所述紅外源和射電核的實(shí)際坐標(biāo)，m₁為所述第一噴流瓣的實(shí)際坐標(biāo)，m₂為所述第二噴流瓣的實(shí)際坐標(biāo)，其中k為伸縮比例，p(k)為一維正態(tài)分布概率密度函數(shù)，p(m₀)＝1/4π，p(m₁|m₀)為第一噴流瓣或第二噴流瓣的近似距離分布的瑞利函數(shù)，該瑞利函數(shù)的輸入?yún)?shù)|m₁-m₀|為m₁與m₀的距離，L_x0、L_y0、L_y1、L_y2為二維正態(tài)分布概率密度函數(shù)g，g中的∑_x0對(duì)應(yīng)的是x₀的測量誤差，∑_y0、∑_y1、∑_y2則是相應(yīng)y₀、y₁、y₂的測量誤差。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的交叉證認(rèn)方法，其特征在于，

所述候選射電源組合中的候選射電源為以紅外源坐標(biāo)為中心，在天空中搜索到的與該中心相距一定范圍內(nèi)的射電目標(biāo)；

其中，所述紅外源與所述紅外星表中的數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)，所述射電核及噴流瓣與所述射電星表中的數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的交叉證認(rèn)方法，其特征在于，所述候選射電源組合是按照核-空-空、核-瓣-空、空-瓣-瓣以及核-瓣-瓣四種組合方式之一進(jìn)行組合。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的交叉證認(rèn)方法，其特征在于，所述通過所述似然值獲取與所述候選射電源組合對(duì)應(yīng)的貝葉斯因子的待證認(rèn)集合，包括：

獲取所述候選射電源組合的似然值對(duì)應(yīng)的貝葉斯因子，所述貝葉斯因子B滿足如下公式：

B＝(4π)⁽ⁿ⁺¹⁾*p(Core，Lobe，Lobe)

其中，p(Core，Lobe，Lobe)為所述候選射電源組合的似然值，n為有效射電成分參數(shù)的個(gè)數(shù)；

根據(jù)所述候選射電源組合的貝葉斯因子B獲取所述待證認(rèn)集合。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的交叉證認(rèn)方法，其特征在于，所述對(duì)所述待證認(rèn)集合進(jìn)行整數(shù)線性優(yōu)化處理，獲取交叉證認(rèn)結(jié)果，包括：

基于整數(shù)線性優(yōu)化函數(shù)庫，建立優(yōu)化模型；

針對(duì)每一個(gè)所述貝葉斯因子，在優(yōu)化模型中新增一個(gè)優(yōu)化變量，所述優(yōu)化變量的值為0或1，權(quán)重為對(duì)應(yīng)所述貝葉斯因子的相反數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的交叉證認(rèn)方法，其特征在于，所述對(duì)所述待證認(rèn)集合進(jìn)行整數(shù)線性優(yōu)化處理，獲取交叉證認(rèn)結(jié)果，還包括：

依據(jù)限制條件獲取所述優(yōu)化變量的和值，所述限制條件為包含同一射電核或紅外源的變量值之和不大于1；

調(diào)用所述整數(shù)線性優(yōu)化函數(shù)庫對(duì)所述和值進(jìn)行實(shí)際優(yōu)化處理，依據(jù)所述實(shí)際優(yōu)化處理結(jié)果獲取對(duì)應(yīng)的候選射電源組合，即交叉證認(rèn)結(jié)果。

7.一種射電星表與紅外星表交叉證認(rèn)裝置，用于實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的射電星表與紅外星表交叉證認(rèn)方法。

8.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有可執(zhí)行指令，其特征在于，所述可執(zhí)行指令被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1-6中任一項(xiàng)所述的射電星表與紅外星表交叉證認(rèn)方法。