[發(fā)明專利]激光沖擊波輔助的電化學(xué)加工裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010280275.0
• 申請日: 2020-04-10
• 公開（公告）號: CN113512741B
• 公開（公告）日: 2022-11-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 王玉峰;張文武
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院寧波材料技術(shù)與工程研究所
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02;C25D5/08;C25D5/18;C25D17/00
• 代理公司: 北京元周律知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11540
• 代理人: 張梅娟

1.一種激光沖擊波輔助的電化學(xué)加工裝置，其特征在于，所述裝置包括激光器部件、沖擊波形成部、加工溶液容納部；

所述加工溶液容納部包括第一容納部、位于所述第一容納部出液側(cè)的第二容納部；

所述沖擊波形成部位于所述第一容納部遠(yuǎn)離所述第二容納部的一側(cè)，并與所述第一容納部的端口連接，用于在所述激光器部件發(fā)射的激光束作用下，形成向所述第一容納部傳播的沖擊波；

所述第一容納部的出液口設(shè)有液體噴頭，所述第一容納部中的加工溶液在所述沖擊波的作用下，經(jīng)所述液體噴頭噴射，對所述第二容納部中的待加工基材進(jìn)行加工。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述沖擊波形成部包括犧牲材料層；

所述犧牲材料層在所述激光器部件發(fā)射的激光束作用下產(chǎn)生等離子體，并形成所述沖擊波。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述沖擊波形成部還包括位于所述犧牲材料層入光側(cè)的約束材料層，

所述約束材料層用于阻擋所述犧牲材料層上形成的等離子體通過。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括移動控制部件，與所述沖擊波形成部連接，用于控制所述沖擊波形成部移動，以切換所述沖擊波形成部的激光束作用區(qū)域。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述液體噴頭與所述出液口可拆卸連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括運動控制部件，與所述第二容納部連接，用于控制所述第二容納部的位置移動，以改變所述第二容納部中待加工材料與所述液體噴頭的相對位置。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括電源；

所述電源的正極與所述液體噴頭連接，所述電源的負(fù)極與所述待加工基材連接；

或者，所述電源的負(fù)極與所述液體噴頭連接，所述電源的正極與所述待加工基材連接；

其中，所述電源、液體噴頭、液體噴頭中的加工溶液、待加工基材之間形成電流回路。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述激光器部件至少包括沿光路依次設(shè)置的激光器、激光束處理單元、反射鏡和聚焦單元；

所述激光器用于向所述激光束處理單元提供激光束；

所述激光束處理單元用于控制所述激光束的大小；

所述反射鏡用于將所述激光束處理單元處理后的激光束反射至所述聚焦單元；

所述聚焦單元用于將激光束聚焦，以照射于所述沖擊波形成部。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述裝置還包括加工溶液提供部，與所述第一容納部連接，用于向所述第一容納部輸送加工溶液。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝置，其特征在于，所述加工溶液提供部包括溫控單元；

所述溫控單元用于調(diào)節(jié)輸入至所述第一容納部中的加工溶液的溫度。